Вхід | Ukrainian | Угода користувача
СловникиФорумКонтакти

   Англійська ⇄ Німецька +
Google | Forvo | +

top-to-bottom registration

мікроел. Überdeckung zwischen oberer und unterer Maske (doppelseitige Fotolithografie)

Додати | Повідомити про помилку | Коротке посилання