|
Subject: downstream excitation source compr. Various plasma excitation sources have been used for PECVD in semiconductors including high density plasma sources and microwave sources. Typically, the high density systems are used as downstream excitation sources due to their very high efficiency in fully cracking all molecular species into reactive radicals or metastable species. Other systems use dual frequency to employ both the advantages of high cracking efficiencies in high density plasmas coupled with directed energy flux with low frequency (i.e. 40 kHz) diode or parallel plate discharge systems.Параграф касается того, где ещё кроме нанесения оптических покрытий можно использовать PECVD (вакуумное осаждение паров). |
|
http://www.multitran.ru/c/m/shortf=1&a=phr&a=ShowTranslations&s=excitation+source&L1=1&L2=2 нисходящие источники возбуждения плазмы? |
| После "отлежания" и с учётом предложенного (спасибо!) решил перевести "источники возбуждения нисходящего потока". |
| You need to be logged in to post in the forum |