Russian | English |
адсорбированный слой | adlayer |
аморфизированный слой | amorphized layer |
антиоксидный слой | anti-oxidation layer |
базовая область ограниченная с боковых сторон слоем оксида | oxide-walled base |
величина сопротивления слоя | sheet-resistance level |
вертикальная сигнальная шина через слои металлизации | fixed via |
верхний защитный слой | cap layer |
вещество, служащее для формирования слоя кремния | sy-yielding precursor |
вещество, служащее для формирования слоя кремния | si-yielding precursor |
временной слой | sacrificial layer |
выпрямление на обедненном слое | depletion-layer rectification |
выпрямление на обедненном слое | barrier-layer rectification |
выращивание моноатомного слоя | monolayer growth |
гетероэпитаксиальный слой | heteroepitaxial layer |
гомоэпитаксиальный слой | homoepitaxial layer |
граница раздела между полупроводниковыми слоями | semiconductor interface |
граничный слой | interfacial layer |
граничный слой | interface layer |
деформация эпитаксиального слоя | epitaxial strain (igisheva) |
диэлектрическая подложка со слоем кремния | soi substrate |
затравочный слой | seed layer (металлизации abolshakov) |
защитный оксидный слой | field oxide layer |
защитный слой | resist |
защитный слой оксида | field isolator |
и-слой | intrinsic layer |
избирательное формирование защитного слоя оксида | selective field-oxidation process |
изолирующий слой для многоуровневых соединений | multilevel insulator |
изоляционный слой | insulator layer |
изоляция слоем оксида | field insulation |
инертный слой | inert layer |
инжектирующий слой | injector layer |
инжектирующий слой | injection layer |
ионная имплантация через слой оксида | field-oxide implantation |
ионная имплантация через слой оксида | field implantation |
ионно-имплантированный слой | ion-implantation layer |
ионно-имплантированный слой | implanted layer |
ионно-имплантированный слой | implantation layer |
ИС на сверхрешётке с напряжёнными слоями | sls chip |
ИС с толстым оксидным слоем и диэлектрической изоляцией | locos integrated circuit |
истоковый слой | source layer |
канавка в оксидном слое | oxide cut |
коммутационный слой | interconnect layer (senmirra) |
композитный слой | composite layer (ssn) |
конструирование приборных структур с точностью до атомного слоя | atomic layer engineering |
контакт поликремниевого слоя и диффузионной области | polysilicon-to-diffusion contact |
контактный слой | ohmic layer |
кремний со слоем силицида | silicided silicon |
критическая толщина слоя | critical layer thickness |
легирование в одном атомном слое | atomic layer dopant |
легирование под защитным слоем оксида | field oxide doping |
материал для формирования маскирующего слоя | maskant |
мдп-транзистор с изолирующим слоем затвора из оксида | metal-alumina-semiconductor transistor |
межуровневый изолирующий слой | interlevel insulator |
металлизация для формирования запирающего слоя | barrier metallization |
металлизированный слой | metallized layer |
металлический слой | metallic pellet |
метод избирательного формирования защитного слоя оксида | selective field-oxide approach |
метод формирования маскирующего слоя | masking technique |
метод формирования слоя нитрида кремния | nitride process |
микроструктурирование металлического слоя | metal patterning |
моделирование изображения в слое фоторезиста | photoresist image simulation |
моделирование рисунка в слое фоторезиста | photoresist image simulation |
МОП-структура с толстым оксидным слоем | mtos structure |
МОП-транзистор с силицидными слоями | silicide mosfet |
МОП-транзистор с углублённым оксидным слоем | buried-oxide MOS transistor |
нанесение защитного слоя после ионной имплантации | post-implantation capping |
нанести слой | layer |
наносить слой | layer |
нарушенный слой | damaged layer (вовка) |
неисправность типа перемычки между слоями | short diffusions fault |
обедненный слой | transition region |
обедненный слой | depletion region |
обеднённый слой | barrier layer |
область в эпитаксиальном слое | epitaxial region |
область под защитным оксидным слоем | field region |
область поликристаллического кремния на оксидном слое | polysilicon-on-oxide region |
обратная литография для формирования металлизированного слоя | metal lift-off |
однородный проводящий слой | conformal conductor (key2russia) |
окно с слое оксида | oxide window |
оксидирование для формирования оксидного слоя на поверхности | planar oxidation |
оксидный маскирующий слой | field-oxide mask |
оксидный маскирующий слой | field mask |
оксидный слой сформированный термическим оксидированием | thermal-oxide layer |
омический слой | ohmic layer |
осаждение эпитаксиального слоя | epitaxial process |
осаждение эпитаксиального слоя | epitaxial processing |
осаждение эпитаксиального слоя | deposition process |
осаждённый слой | deposit |
остаточный слой на поверхности | reside overlayer |
островок в эпитаксиальном слое | epitaxial island |
отверстие в защитном оксидном слое | passivation hole |
отслаивание слоя фоторезиста | photoresist lifetime |
отстоявшийся слой раствора | supernatant solution |
пассивирующий слой | barrier layer |
пассивирующий слой | organic passivation layer |
перемычка между слоями соединений | interlevel connectivity |
перетравление оксидного слоя | oxide overetching |
ПЗС с глубокообедненным слоем | deep-depletion CCD |
планаризующий слой | planarizing layer |
пластина из сапфира со слоем кремния | sos wafer |
пластина с износоустойчивым поверхностным слоем | hard-surface plate |
поверхность имеющая шероховатость порядка одного атомного слоя | atomically rough surface |
поверхность эпитаксиального слоя | epitaxial surface |
повреждения в приповерхностном слое | near-surface damages |
подложка без эпитаксиального слоя | bulk substrate |
подложка со слоем межсоединений | wiring substrate |
подложка со слоем межсоединений | interconnection substrate |
подложка со слоем стекла | glazed substrate |
подтравливание изоляционного слоя | isolation undercut |
поликристаллический кремний со слоем силицида | silicided polysilicon |
полупроводниковая пластина с несколькими эпитаксиальными слоями | composite wafer |
полупроводниковая пластина с эпитаксиальным слоем | epitaxial wafer |
полупроводниковая пластина с эпитаксиальным слоем из газовой | vapor-phase epitaxial wafer |
полупроводниковая пластина со слоем резиста | resist-coated wafer |
полупроводниковый материал со слоем кремния | si-MBE material |
полупроводниковый слой на подложке | supported semiconductor layer |
последовательно сформированные слои | supercomposed layers |
прибор на основе сверхрешётки с напряжёнными слоями | sls device |
пробой оксидного слоя | oxide breakdown |
произведение концентрации примеси на толщину слоя | impurity concentration-thickness product |
промежуточный изоляционный слой между проводящими слоями | prepreg |
расплавление слоя фосфоросиликатного стекла | glass reflow |
рисунок в слое фоторезиста | resist pattern (key2russia) |
рисунок оксидного слоя | oxide pattern |
рисунок слоя фоторезиста | photoresist pattern |
рисунок слоя фоторезиста | photoresist mask pattern |
рисунок слоя фоторезиста | film pattern |
сапфировая лента со слоем кремния | silicon-on-sapphire ribbon |
сапфировая подложка со слоем кремния | sos substrate |
сверхпроводящий слой | superconductive layer |
сверхрешётка с напряжёнными слоями | strained layer superlattice |
скрытый п+-слой коллектора | n+ buried subcollector |
скрытый слой | subcollector region |
скрытый слой коллектора | subcollector |
скрытый слой коллектора, сформированный диффузией мышьяка | as subcollector |
слаболегированный слой | lightly doped layer |
слои многоуровневой разводки | multiple wiring layers |
слои трёхслойной структуры | sandwiched layers |
слой в сквозных отверстиях | via layer |
слой, выращенный молекулярной эптаксией | molecular epitaxy layer |
слой выращенный пиролизом | pyrolytically deposited layer |
слой диоксида кремния, сформированный электронно-лучевой обработкой | e-beam quartz |
слой диэлектрика | dielectric sheet |
слой для передачи сигнала | signal layer |
слой канальной трассировки | wiring channel layer |
слой клея | adhesive coating |
слой композита | composite layer |
слой кремния, полученный методом химического осаждения | cvd silicon |
слой межсоединений | interconnection level |
слой межсоединений | interconnection layer |
слой металлизации | metallization level |
слой металлизации | metal layer |
слой на поверхности | overlayer |
слой объёмного заряда | space-charge layer |
слой оксида на поверхности планарного полупроводникового прибора | planar oxide |
слой поликристаллического кремния | polysilicon layer |
слой препятствующий диффузии | diffusion-impervious layer |
слой препятствующий оксидированию | oxidation barrier |
слой препятствующий оксидированию | oxide-inhibiting layer |
слой, препятствующий оксидированию | oxidation-barrier film |
слой р+-типа | p+ stratum |
слой с гауссовским распределением примеси | Gaussian-doped layer |
слой с микропереходами | microvia layer |
слой с переходными микроотверстиями | microvia layer |
слой с самоорганизующейся структурой | self-assembled layer |
слой с самосборкой | self-assembled layer |
слой сверхрешётки | superlattice layer |
слой со сформированным рисунком | patterned layer (semfromshire) |
слой стойкий к травителю | etch-resistant layer |
слой, сформированный термовакуумным напылением | vacuum-evaporated layer |
слой, сформированный термовакуумным осаждением | vacuum-deposited layer |
слой n-типа | n stratum |
слой n-типа | n layer |
слой p-типа | p layer |
слой фотолака | lacquer layer |
слой фоторезиста | lacquer layer |
слой фотошаблона | mask level |
совмещённые слои | registered layers |
соединения между слоями токопроводящих дорожек | through-the-pattern routine |
сопротивление слоя базы | base sheet resistance |
состав осаждённого слоя | deposition composition |
сплошной слой | blanket layer |
столбиковый вывод с поверхностным слоем золота | sputtered gold bump |
структура маскирующего слоя | mask structure |
структура с оксидным слоем, заполняющим мелкие канавки | semi-rox structure |
структура слоя соединений | wiring layer structure (ssn) |
структура слоя соединения | wiring layer structure |
структурированный слой | patterned layer (semfromshire) |
ступенчатые слои | stepped layers |
ступенчатый слой оксида | stepped oxide |
ступенька в оксидном слое | oxide step |
температура осаждения эпитаксиального слоя | epitaxial-deposition temperature |
тестовый резистор для измерения поверхностного сопротивления слоя | bridge sheet resistor |
технология МОП ИС с двумя слоями поликристаллического | poly-squared MOS process |
технология МОП ИС с тремя слоями поликристаллического кремния | triply-poly process |
толстый слой оксида | thick oxide |
толщина оксидного слоя затвора | gate-oxide thickness |
тонкий слой оксида | thin oxide |
тонкий слой оксида в МОП-структуре | MOS oxide |
тормозящий слой | stopping layer |
транзистор с глубокообедненным слоем | deep depletion transistor |
углублённый оксидный слой | inset oxide layer |
удельное сопротивление слоя | sheet resistivity |
упорядочение атомов в эпитаксиальном слое | eptaxial ordering |
устранение дефектов слоем жидкого кристалла на изделии | liquid-crystal troubleshooting |
утолщение эпитаксиального слоя на краях пластины | epitaxial-edge crown |
участок поверхности без оксидного слоя | oxide-free area |
формирование межуровневого оксидного слоя | interlevel oxidation |
формирование проводящего слоя | conductorization (epo.org Ramesh) |
формирование промежуточного оксидного слоя | sacrificial oxide process |
формирование рельефа в слое фоторезистора | resist patterning |
формирование рисунка в слое металлизации | metal definition |
формирование рисунка в слое фоторезиста | resist definition |
формирование рисунка в слое фоторезистора | resist patterning |
фоточувствительный слой | photosensitive layer |
функция нижнего слоя | low-layer function |
характеристика эпитаксиального слоя | epitaxial-layer characteristic |
характеристика эпитаксиального слоя | epi-layer characteristic |
химическое осаждение эпитаксиального слоя из паровой фазы | epitaxial cvd |
целостность оксидного слоя затвора | gate-oxide integrity |
шаблон с металлическим слоем на полимерной плёнке | metal-on-polymer mask |
электронный слой | electron sheath |
эпитаксиальные слои из материалов с изменяющимися постоянными решётки | lattice-graded epilayers |
эпитаксиальный слой | epi layer |
эпитаксиальный слой из жидкой фазы | liquid-phase epitaxial layer |
эпитаксиальный слой p-типа | p-epi |
ёмкость инверсионного слоя | inversion capacitance |