| Russian | English |
| актиничное излучение | exposing radiation (key2russia) |
| альфа-излучение | alpha particle radiation |
| ближнее ультрафиолетовое излучение | near ultraviolet |
| ближнее УФ-излучение | near ultraviolet |
| взаимодействие лазерного излучения и сверхпроводящей мишени | laser-superconductivity target interaction |
| геттерирование излучением эксимерного газа | excimer laser gettering |
| дальнее ультрафиолетовое излучение | deep uv rays |
| дальнее ультрафиолетовое излучение | deep uv light |
| дальнее ультрафиолетовое излучение | far ultraviolet |
| дальнее ультрафиолетовое излучение | deep ultraviolet |
| дальнее УФ-излучение | far ultraviolet |
| дальнее УФ-излучение | deep ultraviolet |
| деградация под воздействием УФ-излучения | uv degradation |
| длина волны экспонирующего излучения | printing wavelength |
| жёсткость излучения | hardness |
| излучение джозефсона | Josephson radiation |
| излучение мазера | maser radiation |
| излучение накачки | pump radiation |
| ик-излучение | infrared rays |
| ик-излучение | infrared radiation |
| интегральная плотность потока энергии лазерного излучения | laser fluence |
| ИС, чувствительная к ик-излучению | infra-red integrated circuit |
| источник дальнего ультрафиолетового излучения | deep-ultraviolet source |
| источник ик-излучения | infrared emitter |
| источник рентгеновского излучения | x-ray source |
| источник ультрафиолетового излучения | uv source |
| источник УФ-излучения | uv source |
| коллимированный источник излучения | collimated source |
| лазерный источник рентгеновского излучения | laser X-ray source |
| лак, чувствительный к излучению | radiation-sensitive lacquer |
| литография с использованием синхротронного излучения | synchrotron lithography |
| литография с использованием УФ-излучения | ultraviolet lithography |
| метод фотолитографии с использованием дальнего ультрафиолетового излучения | deep-ultraviolet photolithographic technology |
| метод фотолитографии с использованием ультрафиолетового излучения | ultraviolet photolithography technology |
| область ближнего ультрафиолетового излучения | near-uv region |
| область дальнего ультрафиолетового излучения | deep-uv region |
| область ультрафиолетового излучения | ultraviolet region |
| область УФ-излучения | ultraviolet region |
| оксидирование под действием лазерного излучения в УФ-диапазоне | ultra-violet laser oxidation |
| оплавление ик-излучением | infrared reflow |
| осаждение, стимулированное излучением эксимерного лазера | excimer-induced deposition |
| отверждение ик-излучением | infrared cure |
| отверждение УФ-излучением | ultraviolet cure |
| поглощение лазерного излучения | laser radiation absorption |
| полевой транзистор, чувствительный к УФ-излучению | infrared FET |
| полупроводниковый источник излучения | semiconductor source |
| радиационная стойкость к альфа-излучению | alpha immunity |
| резист, чувствительный к ближнему ультрафиолетовому излучению | near-uv resist |
| резист, чувствительный к дальнему ультрафиолетовому излучению | deep-uv resist |
| резист, чувствительный к излучению | radiation-sensitive resist |
| рекристаллизация под действием лазерного излучения | laser-induced recrystallization |
| рентгеновское излучение | x rays |
| спектр бета-излучения | beta spectrum |
| спектр бета-излучения | bet-ray spectrum |
| спектр гамма-излучения | gamma-ray spectrum |
| спектр гамма-излучения | gamma spectrum |
| спектр излучений | radiation spectrum |
| спектр рентгеновского излучения | x-ray spectrum |
| спектроскопия энергетической дисперсии рентгеновского излучения | energy dispersive X-ray spectroscopy |
| стойкость к альфа-излучению | alpha-ray resistant strength |
| стойкость к альфа-излучению | alpha resistant strength |
| стойкость к рентгеновскому излучению | x-ray hardness |
| ток, наведённый лазерным излучением | laser-beam induced current |
| тормозное излучение | inverse bremsstrahlung |
| травление, стимулированное излучением в области вакуумного ультрафиолета | vuv-assisted etching |
| травление, стимулированное излучением в области вакуумного ультрафиолета | vacuum ultra-violet-assisted etching |
| травление, стимулированное синхротронным излучением | synchrotron radiation-assisted etching |
| удаление воздействием лазерного излучения | laser ablation |
| удержание излучения | radiation confinement |
| установка литографии с использованием ультрафиолетового излучения | uv exposure system |
| установка литографии с использованием УФ-излучения | uv exposure system |
| установка проекционной фотолитографии дальним УФ-излучением | deep-uv projection aligner |
| УФ-излучение | uv |
| фоторезист, чувствительный к ультрафиолетовому излучению | ultraviolet-sensitive resist |
| фоторезист, чувствительный к ультрафиолетовому излучению | ultraviolet resist |
| фотошаблон с дальним УФ-излучением | deep uv mask |
| чувствительность к альфа-излучению | alpha sensitivity |
| экспонирование дальним ультрафиолетовым излучением | deep-uv exposure |
| экспонирование излучением синхротрона | synchrotron exposure |
| экспонирование излучением синхротрона | sor exposure |
| эмульсия, чувствительная к УФ-излучению | uv emulsion |
