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Microelectronics
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English
German
abandon the strict Harvard architecture
of the
microcomputer
die strenge Harvard-Architektur des Mikrocomputers aufgeben
acceleration
of the
stage
Beschleunigung des Tisches
access portion
of the
cycles
Zugriffsabschnitt der Operationszyklen
access time
of the
store
Zugriffszeit des Speichers
accurately dimensioned picture
of the
integrated circuit chip
Bild des integrierten Schaltkreises mit genauen Dimensionen
accurately scaled representation
of the
integrated circuit chip
maßstäblich genaue Darstellung der integrierten Schaltung
acquisition range
of the
fine-alignment system
Erfassungsbereich des Feinjustiersystems
act selectively on different areas
of the
wafer
selektiv auf verschiedene Flächen des Wafers wirken
active edge
of the
clock
aktive Taktsignalflanke
actual X-Y location of each element in the array
tatsächlicher Koordinatenort jedes Elements in der Matrix
added Operation of bumping the wafer
zusätzlicher Arbeitsgang der Bondhügelherstellung auf dem Wafer
addition of copper during the aluminium evaporation
Zugabe von Kupfer während der Aluminiumaufdampfung
adhesion
of the
resist
Haftung des Resists
(am Substrat)
adjust the beam position during the writing of subsequent stripes
die Strahlposition während des Schreibens der folgenden Streifen justieren
adjustment
of the
film resistor value
Trimmen des Schichtwiderstandswertes
adjustment
of the
film resistor value
Abstimmung des Schichtwiderstandswertes
adjustment
of the
lens-to-wafer separation
Einstellung des Objektiv-Wafer-Abstands
advancing state-
of-the
-art in semiconductor fabrication processes
fortschreitend höherer Entwicklungsstand der Halbleiterfertigungsverfahren
align parallel to the X-axis motion
of the
stage
parallel zur x-Richtung der Tischverschiebung justieren
alignment
of the
tape leads to the chip bumps
Justage der Zwischenträger zu den Bondhügeln der Chips
alignment
of the
tape leads to the chip bumps
Ausrichtung der Zwischenträger zu den Bondhügeln der Chips
allocate the time of a central processor to a specific job
die Zeit eines Zentralprozessors einem bestimmten Job zuweisen
allow the transfer of data between computers
die Übertragung von Daten zwischen Rechnern ermöglichen
alter the contents
of the
memory
den Speicherinhalt ändern
ambient temperature
of the
package environment
Umgebungstemperatur des Gehäuses
angle of incidence
of the
X-rays
Einfallswinkel der Röntgenstrahlen
angle
of the
slope
Böschungswinkel
apply a layer of photoresist uniformly to the oxidized silicon
eine Fotoresistschicht gleichmäßig auf das oxydierte Silizium aufbringen
apply a thick layer of a resist to the wafer
eine dicke Resistschicht auf dem Wafer aufbringen
apply just one drop of solution to the surface
nur einen Lösungstropfen auf die Oberfläche bringen
(Schleuderbeschichtung)
approach the limits of optical lithography
an die Grenzen der optischen Lithografie herankommen
approach the resolution limits of light optics
die Auflösungsgrenzen der Lichtoptik annähernd erreichen
approximate location
of the
fiducial mark
annähernde Lage der Justiermarke
arrange the pins around all four sides
of the
package
die Anschlußstifte auf allen vier Seiten des Gehäuses anordnen
arrival of data at one point at the same time
gleichzeitiges Eintreffen der Daten in einem Punkt
assigned part
of the
frequency spectrum
zugewiesener Teil des Frequenzbereichs
astigmatism
of the
probe
Astigmatismus der Sonde
asynchronous communications using the serial input-output features
of the
microprocessor
asynchrone Datenübertragung mit seriell arbeitenden Eingabe-Ausgabe-Systemen des Mikroprozessors
attach the chip carrier to the ceramic board by means of solder reflow
den Chipträger auf dem Keramiksubstrat durch Aufschmelzlöten befestigen
audit
of the
logical and electrical integrity of the layout
Prüfung der logischen und elektrischen Integrität des Layouts
automate every step
of the
bonding operation
jeden Schritt des Bondvorgangs automatisieren
automation of portions
of the
mask making process
Automatisierung von Teilen des Schablonenfertigungsprozesses
autoroute 80 %
of the
p.c. board/to 80 %
der Leiterplattenverbindungen automatisch herstellen
availability
of the
stored information at the output of the memory
Verfügbarkeit der gespeicherten Daten am Speicherausgang
average width
of the
feature
mittlere Strukturbreite
backside-bonded
of the
wafer
Rückseite des Wafers
barrier voltage
of the
emitter junction
Sperrschichtspannung des Emitterübergangs
basic design
of the
circuit
prinzipieller Schaltungsaufbau
beginning
of the
instruction
Befehlsanfang
beginning
of the
recording area
Anfang der Speicherfläche
bending
of the
conduction and valence bands
Krümmung des Leitungs- und Valenzbandes
binding energy
of the
electron
Bindungsenergie des Elektrons
bit position 0
of the
data bus
Bitposition 0 des Datenbusses
bits of silicon from the wafer
Siliziumteilchen vom Wafer
blurring
of the
image
Verschleierung des Bildes
blurring
of the
image
Unschärfe des Bildes
bond bumped chips to the inner leads
of the
interconnects
die inneren Enden des Zwischenträgers auf die mit Bondhügeln versehenen Chips bonden
bond the inner leads
of the
tape pattern to the bumped terminal pads of an IC chip
die inneren Enden der Folienstruktur auf die Bondhügel eines Chips bonden
boost the driving capability of a microprocessor
die Treiberleistung eines Mikroprozessors verstärken
border
of the
depletion region
Grenze der Verarmungszone
bore
of the
projection lens
Bohrung des Projektionsobjektivs
bottom-brazed edge
of the
die pattem
untere Kante der Einzelbildstruktur
broaden the effective size of a focussed beam
den effektiven Durchmesser eines fokussierten Strahls vergrößern
build up the entire chip out of progressively larger blocks
das gesamte Chip aus zunehmend größeren Funktionsblöcken aufbauen
build up the total image of a circuit from rectangles
die Gesamtstruktur eines Schaltkreises aus Rechtecken zusammensetzen
bulk
of the
pattern data
Masse der Strukturdaten
bulk
of the
wafer
Volumen des Wafers
(im Gegensatz zur Oberflächenschicht)
bumping
of the
pad
Bondhügelherstellung
bumping
of the
pad
Erhöhen der Bondinsel
bypass a low-yielding part
of the
mask making process
einen Teil des Maskenherstellungsprozesses mit geringer Ausbeute umgehen
bypass many
of the
mask operations
viele Maskenoperationen umgehen
byte size
of the
machine
Bytegröße des Rechners
capacitance
of the
p-n junction
Sperrschichtkapazität
capture the state
of the
logic
den Zustand der Logik erfassen
carry-out
of the
same digit position
Übertrag aus derselben Ziffernstelle
charging time constant
of the
circuit
Ladungszeitkonstante der Schaltung
circuit trace side
of the
board
Leiterbahnseite
(einer Leiterplatte)
coarse alignment
of the
wafer
Grobjustierung des Wafers
coating of uniform thickness across the entire wafer surface
Schicht von gleichmäßiger Dicke auf der gesamten Waferoberfläche
common-mode rejection ratio
of the
op amp
Gleichtaktunterdrückung fdes Operationsverstärkers
compensating capability
of the
system
Kompensationsmöglichkeit der Anlage
compensating deflection
of the
beam
Kompensationsablenkung des Strahls
complete the service
of the
interrupt
die Behandlung der Unterbrechung abschließen
completion
of the
current instruction
Abarbeitung des laufenden Befehls
completion
of the
current instruction
Ausführung des laufenden Befehls
computation
of the
covariance function
Berechnung der Kovarianzfunktion
concavity
of the
etched feature
konkave Form des geätzten Strukturelements
cone angle
of the
rays
Winkel des Strahlenbündels
connections on the perimeter
of the
chip
Anschlüsse mpl am Chipumfang
connections on the perimeter
of the
chip
Verbindungen am Chipumfang
consistency
of the
imagery
Gleichmäßigkeit der Abbildung
consistent quality
of the
photoresists
gleichbleibende Qualität der Fotoresists
constant intensity across most
of the
beam diameter
konstante Intensität über den größten Teil des Strahldurchmessers
consume a large part
of the
die area
einen großen Teil der Chipfläche einnehmen
(beanspruchen)
contact duplication
of the
mask onto the wafer
Kontaktkopierung der Maske auf den Wafer
contact pads on all four sides
of the
chip carrier
Kontaktstellen auf allen vier Seiten des Chipträgers
contact printing
of the
pattern onto the device substrate
Kontaktkopieren der Struktur auf das Bauelementsubstrat
contain the complete pattern for all dice at the actual size
of the
final features
die vollständige Struktur für alle Chips in natürlicher Größe der endgültigen Strukturelemente enthalten
(1 ×)
contents
of the
counter
Inhalt des Zählers
continuous motion
of the
X-Y table
kontinuierliche Verschiebung des Koordinatentisches
control
of the
lens-to-wafer separation
Kontrolle des Abstands zwischen Objektiv und Wafer
control
of the
lens-to-wafer spacing
Kontrolle des Abstands zwischen Objektiv und Wafer
control the movement
of the
machine table
die Verschiebung des Gerätetisches steuern
control tolerance of 10 %
of the
minimum line width
Einhaltungstoleranz von 10 % der kleinsten Linienbreite
copper foil
of the
desired thickness
Kupferfolie der gewünschten Dicke
copy number
of the
file
Kopiennummer der Datei
copy
of the
original mask
Kopie der Originalschablone
copy
of the
original mask
Duplikat der Originalschablone
copy the contents of a memory area to a backing store
den Inhalt eines Speicherbereichs auf einen Hilfsspeicher übertragen
create a 4.0-mm wide image
of the
slit at the mask plane
ein 4 mm breites Bild des Spalts in der Maskenebene erzeugen
create a new copy
of the
file
eine neue Kopie der Datei erzeugen
creeping
of the
etching solution under the resist coating
Kriechen der Ätzlösung unter die Resistschicht
cross the barrier of 1 μm
die 1-μm-Barriere durchbrechen
crossing
of the
junction by individual carriers
Durchqueren des pn-Übergangs durch einzelne Ladungsträger
crystallographic orientation
of the
silicon substrate
Kristallorientierung des Siliziumsubstrats
current state
of the
device
aktueller Zustand des Geräts
current version
of the
file
aktuelle Version der Datei
current-carrying path
of the
resistor
Stromleitpfad des Widerstands
cut off the least significant digits of a number
die niedrigstwertigen Ziffern einer Zahl abschneiden
cut the mask generation time down by a factor of two to three
die Maskenherstellungszeit um das Zwei- bis Dreifache verringern
(reduzieren)
cutoff
of the
transistor
Sperrung des Transistors
cutoff region
of the
transistor
Sperrbereich des Transistors
data management capability
of the
processor
Datenverwaltungsmöglichkeit des Prozessors
decay
of the
output voltage
Abfall der Ausgangsspannung
decollimation
of the
illumination
Dekollimation der Beleuchtung
decompose the pattern into a number of elements
das Belichtungsmuster in eine Reihe von Elementarfiguren zerlegen
defect reticle
of the
pattern
Defektretikel der Struktur
deficiencies
of the
mask aligners
Nachteile der Justier- und Belichtungsanlagen
define the edges of broad areas
die Kanten großer Flächen scharf markieren
deflect the direction of an atom
ein Atom aus seiner Richtung ablenken
degradation
of the
resist profile
Verschlechterung des Resistprofils
delineation
of the
desired pattern in the resist
Schreiben der gewünschten Struktur im Resist
demagnified image
of the
source
verkleinerte Abbildung der Quelle
depict the logic operation
of the
chip clearly and concisely
die funktionelle Operation des Chips eindeutig und kurz darstellen
depletion width
of the
Schottky barrier
Sperrschichtbreite der Schottkyschen Randschicht
deposit essentially line-of-sight on the vacuum chamber walls
sich im wesentlichen geradlinig auf den Vakuumkammerwänden niederschlagen
(Ionenstrahlätzen)
deposit two or more layers on the surface of each wafer
zwei oder mehr Schichten auf jeden Wafer aufdampfen
describe the layout to the computer in terms of its geometry
das Layout für den Computer in Form seiner Strukturanordnung beschreiben
destroy the contents
of the
memory
den Speicherinhalt zerstören
(löschen)
detection
of the
transmitted X-rays
Nachweis der durchgelassenen Röntgenstrahlen
deterioration
of the
mask quality
Verschlechterung der Schablonenqualität
determine the position
of the
mark to an accuracy at least equal to the beam diameter
die Markenposition mit einer mindestens dem Strahldurchmesser entsprechenden Genauigkeit bestimmen
deviation
of the
photoresist thickness from the mean value
Abweichung der Fotoresistdicke vom Mittelwert
differential
of the
input signal
Differential des Eingangssignals
diffraction of light at the edges of features in the patterns
Beugung des Lichts an den Kanten der Strukturelemente
diffuse impurities into precisely defined regions
of the
semiconductor wafer
Fremdatome in genau definierte Zonen des Halbleiterwafers eindiffundieren
diffusion rate
of the
reactant
Diffusionsgeschwindigkeit des Reaktanten
diffusivity of electrons and holes in the base
Diffusionsvermögen von Elektronen und Defektelektronen in der Basis
digital description
of the
pattern
digitale Beschreibung der Struktur
dimensional accuracy
of the
developed resist pattern
Genauigkeit der Abmessungen der entwickelten Resiststruktur
direct exposure of wafers by the electronbeam system
Direktbelichtung von Wafern durch die Elektronenstrahlanlage
direct the beam sequentially to the elements
of the
chip pattern to be exposed
den Strahl sequentiell zu den zu belichtenden Elementen der Chipstruktur führen
direct writing
of the
device pattern with a scanning electron beam
Direktschreiben der Bauelementstruktur mit einem Rasterelektronenstrahl
direction
of the
beam scan
Strahlabtastrichtung
directionality
of the
etching ions
Richtungsfähigkeit der Ätzionen
discharging time constant
of the
circuit
Entladungszeitkonstante der Schaltung
displacement of one digit position to the left
Verschiebung um eine Stelle nach links
displacement
of the
leads
Verbiegen der Zwischenträgerbrücken
displacement range
of the
object table
Verschiebungsbereich des Objekttisches
dissolution
of the
exposed area
Auflösung der belichteten Fläche
(in Positivresists)
dissolution
of the
unexposed area
Auflösung der unbelichteten Fläche
(in Negativresists)
dissolve the exposed portions
of the
substrate
die belichteten Teile des Substrats lösen
distance
of the
wafer from the plane of best focus
Abstand des Wafers von der besten Fokusebene
dopant concentration
of the
p-channel
Dotierungskonzentration des p-Kanals
downward bending
of the
conduction band
Krümmung des Leitungsbandes nach unten
drain current at the point of pinch-off
Drainstrom im Abschnürpunkt
(MOSFET)
drift velocity
of the
particles
Wanderungsgeschwindigkeit der Teilchen
drift velocity
of the
particles
Driftgeschwindigkeit der Teilchen
drop to 50 %
of the
initial value
auf 50 % des Anfangswerts fallen
dumping
of the
data from block buffers to the shifter system
Umspeicherung der Daten von Blockpuffern zum Schiebesystem
edge
of the
clock pulse
Taktimpulsflanke
edge
of the
resist profile
Kante des Resistprofils
edge
of the
shadow
Schattenkante
edge profile
of the
beam
Flankenprofil des Strahls
edge profile
of the
developed resist
Kantenprofil des entwickelten Resists
edge slope
of the
beam profile
Flanke des Strahlprofils
effect simultaneous bonds of all outer leads to the substrate
gleichzeitig alle äußeren Enden des Zwischenträgers auf das Substrat bonden
eigenfunction
of the
state
Eigenfunktion des Zustands
eigenvalue
of the
electronic state
Eigenwert des Elektronenzustands
electroless application
of the
tin coating on the lead frames
stromlose Verzinnung der Anschlußkammstreifen
electrooptical sensing
of the
wafer edges for prealignment
elektrooptisches Abtasten der Waferkanten zur Vorjustierung
elemental area
of the
aperture
Flächenelement der Öffnung
emulsion side
of the
master mask
Schichtseite der Originalschablone
enhancement
of the
field ion current
Verstärkung des Feldionenstroms
enhancement
of the
junction leakage current
Verstärkung des Übergangskriechstroms
erase the contents
of the
memory
den Speicherinhalt löschen
erasure
of the
contents of a file
Löschen des Dateiinhalts
erasure
of the
contents of a file
Löschung des Dateiinhalts
erasure
of the
memory
Löschung des Speichers
escape energy
of the
Auger electron
Austrittsenergie des Auger-Elektrons
establish the validity of test chip data
die Gültigkeit der Testchipdaten nachweisen
etch out
of the
wafer
aus dem Wafer herausätzen
etch the V notch out
of the
silicon
den V-förmigen Graben in das Silizium ätzen
exploitation
of the
technique
Anwendung des Verfahrens
expose the photoresist on the surface of a wafer to the patterns on a reticle
das Fotoresist auf der Oberfläche eines Wafers mit den Strukturen eines Retikels belichten
exposure
of the
second or higher level
Belichtung der zweiten oder höheren Ebene
(auf einem Wafer)
exposure time on the order of a minute
Expositionszeit von etwa einer Minute
exposure time on the order of a minute
Belichtungszeit von etwa einer Minute
exposure to the edge
of the
wafer
Belichtung bis zum Rand des Wafers
extend the limits of performance for optical projection lithography
die Leistungsgrenzen für die optische Projektionslithografie ausdehnen
extend the number of memory cells
die Zahl der Speicherzellen erweitern
extend the present limits of IC device dimensions
die heutigen Grenzen der IC-Bauelementabmessungen erweitern
extend to a distance less than a wavelength of light away from the mask
sich auf weniger als eine Lichtwellenlänge von der Maske erstrecken
extension
of the
insulating depletion layer into the substrate
Ausdehnung der isolierenden Sperrschicht in das Substrat
extract the defects from the top
of the
wafer
die Störstellen aus der Waferoberfläche abziehen
facetting
of the
step edges
Verbreiterung der Böschungskanten
faithful reproduction
of the
image
geometrisch genaue Abbildung
(Kopie des Bildes)
falling edge
of the
input signal
abfallende Flanke des Eingangssignals
fetch cycle
of the
next instruction
Abrufzyklus des nächsten Befehls
fidelity
of the
geometries
Abbildungs- und Formtreue der Strukturen
fidelity
of the
pattern
Formtreue der Struktur
find the fiducial mark with an accuracy of 1/32 micron
die Meßmarke mit einer Genauigkeit von 1/32 μm auffinden
fine line geometries
of the
order of 1
μm Mikrolinienstrukturen in der Größenordnung von 1 pm
fineness
of the
structure of the pattern
Detailfeinheit der Struktur
finite extent
size
of the
X-ray source
endliche Ausdehnung der Röntgenquelle
floor plan
of the
chip
Lageplan der Chipfunktionselemente
floor plan
of the
chip
Anordnung der Chipfunktionselemente
f-number
of the
projection optics
Blendenzahl der Projektionsoptik
(optische Projektionslithografie)
f-number
of the
projection optics
Blende der Projektionsoptik
(optische Projektionslithografie)
focus the beam just to the side of a knifeedge
den Strahl genau neben eine Schneide fokussieren
focus the square shape
of the
aperture on the target
die quadratische Blende auf das Objekt scharf abbilden
force entry to the end-of-run routine
den Einsprung in das Maschinenprogramm bei Programmende erzwingen
force the complete automation of wafer fab
die gesamte Automatisierung der Waferfertigung erzwingen
force the complete automation of wafer fabrication
die gesamte Automatisierung der Waferfertigung erzwingen
form an image
of the
crossover on the target
ein Bild des Crossover auf dem Objekt erzeugen
form part
of the
next address
einen Teil der nächsten Adresse bilden
formation of features in the 1 μm range
Bildung von Strukturelementen im 1-pm-Bereich
foul the edge
of the
chip/to an
die Chipkante stoßen
fraction of hole current at the junction
Anteil des Löcherstroms am Übergang
fragility
of the
ultrathin membrane
Zerbrechlichkeit der ultradünnen Membrane
functional partitioning
of the
microcomputer
funktionale Partitionierung des Mikrorechners
functional partitioning
of the
microcomputer
Arbeitsteilung des Mikrorechners
functional testing
of the
chips
funktionale Prüfung fder Chips
functional testing
of the
chips
Funktionsprüfung fder Chips
functional unit
of the
microprocessor
Funktionseinheit des Mikroprozessors
gain control
of the
bus
Kontrolle über den Bus erlangen
gate selectively the flow of information from the bus to the acceptor
den Datenfluß vom Bus zur Empfangsstation selektiv durchsteuern
generation
of the
file
Erstellung der Datei
gettering treatment applied to the backside
of the
slice
Getterbehandlung auf der Rückseite der Scheibe
go directly to any cell
of the
chip
direkt auf eine beliebige Zelle des Chips gehen
guide
of the
bonding system
Führung der Bondanlage
heating mechanism
of the
reactor
Heizmechanismus des Reaktors
heating mechanism
of the
reactor
Aufheizmechanismus des Reaktors
heel
of the
bond
Bondferse
height
of the
depletion layer
Sperrschichthöhe
high degree of repetition in the pattern
hoher Wiederholgrad in der Struktur
high-fidelity transfer
of the
desired geometries onto the wafer
Übertragung der gewünschten Strukturen auf den Wafer mit hoher Abbildungs- und Formtreue
high-frequency response
of the
insulated-gate field-effect transistor
Hochfrequenzverhalten des Feldeffekttransistors mit isolierter Steuerelektrode
high-resolution replication
of the
printed resist patterns
Vervielfältigung der belichteten Resiststrukturen mit hoher Auflösung
high-speed end
of the
speed-power curve
oberes Geschwindigkeitsende der Geschwindigkeit-Leistungs-Kurve
home position
of the
cursor
Ausgangsposition der Positionierungsmarke
identification of misplacements in the design
Feststellung von fehlerhaften Plazierungen im Entwurf
image an aperture in the plane of a second aperture
eine Blende in die Ebene einer zweiten Blende abbilden
image composition of both the wafer and reticle marks
Bildzusammensetzung der Wafer- und Retikelmarken
image field
of the
10x reduction lens
Bildfeld des 10:1-Verkleinerungsobjektivs
image
of the
first aperture
Abbild der ersten Blende
(Elektronenstrahllithografie)
imprecision
of the
algorithms
Ungenauigkeit der Algorithmen
incorporation of strongly absorbing chlorine atoms in the resist
Einbau von stark absorbierenden Chloratomen im Resist
incorporation
of the
impurity during crystal growth
Einbau on von Fremdatomen während der Kristallzüchtung
increase as the square
of the
field
mit dem Quadrat des Bildfeldes zunehmen
increase the complexity
of the
chip almost fivefold
die Komplexität des Chips fast um das Fünffache erhöhen
increase the number of functions per chip
die Anzahl der Funktionen je Chip erhöhen
independent
of the
central computer
unabhängig vom Verarbeitungsrechner
indicate the end of a block
das Blockende anzeigen
infidelity
of the
geometries
mangelnde Abbildungs- und Formtreue der Strukturen
infrared heating
of the
substrate
Aufheizung des Substrats durch Infrarotstrahlen
(IR-Strahlen)
initiate the loading of a program into a computer
die Eingabe eines Programms in einen Computer einleiten
inner ends
of the
lead pattern
innere Enden der Zwischenträgerstruktur
(die mit den Bondhügeln auf dem Halbleiterchip verbunden werden)
inner ends
of the
tape's leads
innere Enden der Anschlußbrücken
inner leads
of the
carrier's IC interconnection patterns
Innenanschlüsse mp/'der Zwischenträgerstrukturen für integrierte Schaltkreise
inner leads
of the
interconnects
innere Enden der Zwischenträgerbrükken
inner leads
of the
interconnects
Innenanschlüsse des Zwischenträgers
insertion of cassettes into the load chamber
Einsetzen der Kassetten in die Ladekammer
instantaneous exposure
of the
resist
momentane Belichtung des Resists
integral
of the
input signal
Integral des Eingangssignals
integrate over the length L
of the
channel
über die Länge L des Kanals integrieren
integrity
of the
layout
Fehlerlosigkeit des Layouts
integrity
of the
layout
Vollkommenheit des Layouts
integrity
of the
layout
Integrität des Layouts
integrity
of the
package
Fehlerlosigkeit des Bausteins
integrity
of the
pattern
Fehlerlosigkeit der Struktur
interconnection
of the
gates
Verbindung der Gatter
internal workings
of the
chip
innere Funktionsabläufe des Chips
internal workings
of the
chip
innere Arbeitsabläufe des Chips
interrupt logic
of the
I-O devices
Unterbrechungslogik der Peripherie
intersection
of the
word and bit lines
Schnittpunkt der Wort- und Bitleitungen
introduce a time lag into the process of transmitting data
eine zeitliche Verzögerung in den Datenübertragungsprozeß einführen
ion-beam milling
of the
gold pattern
Ionenstrahlätzen der Goldstruktur
isolate the projection optics from all sources of vibration
die Projektionsoptik von alien Schwingungsquellen trennen
isolated from the rest
of the
circuit
vom übrigen Schaltkreis isoliert
isolation of faults holding back the yield
Eingrenzung von ausbeutereduzierenden Fehlern
judge the size of imperfections
die Größe von Defekten beurteilen
judgement
of the
aligned condition
Bewertung des Justierzustands
judgement
of the
aligned condition
Beurteilung des Justierzustands
keep any dust out
of the
plane of focus
jeden Staub von der Fokusebene fernhalten
keep each
of the
mask steps aligned
die Justierung durch alle Maskierungsschritte hindurch aufrechterhalten
keep the beam within 0.3 mm of its undeflected position
den unabgelenkten Strahl bis auf 0,3 mm genau positionieren
keep track
of the
X-Y stage position
die Koordinatentischposition verfolgen
knee
of the
voltage-current characteristic
Knick der Spannungs-Strom-Kennlinie
lack of correspondence between the logic diagram and the circuit schematic
mangelnde Übereinstimmung zwischen dem Logikdiagramm und dem Schaltkreisschema
latch the address of an incorrect word
die Adresse eines falschen Wortes in einem Latch erfassen
(auffangen, speichern)
lay out the circuit according to a set of design rules
das Schaltkreislayout unter Berücksichtigung der Entwurfsregeln ausführen
least count
of the
thickness gauge
kleinster Meßwert des Dikkenmeßgeräts
least count
of the
thickness gauge
kleinster Anzeigewert des Dikkenmeßgeräts
lengthen the cycle time
of the
memory
die Zykluszeit des Speichers verlängern
levelling out
of the
drain cürrent
Abflachung des Drainstroms
lighten the burden of
entlasten
limitation of resolution imposed by the wavelength of light
durch die Lichtwellenlänge bedingte Begrenzung der Auflösung
load line
of the
circuit
Lastgerade der Schaltung
loading
of the
mask cassette
Laden der Maskenkassette
loading
of the
photomask cassette
Laden der Maskenkassette
locate the edges of features
die Lage der Strukturkanten bestimmen
location
of the
bond pads in the corners of a chip
Lage der Bondinseln in den Chipecken
location
of the
error burst
Adresse des Fehlerbündels
location
of the
fiducial mark
Ort der Justiermarke
location
of the
test pattern
Ort der Teststruktur
logic Simulation
of the
gate level performance of a circuit
logische Simulation der Schaltungsleistung auf Gatterebene
lowering
of the
potential barrier
Abbau des Potentialwalls
lowering
of the
potential barrier
Senkung des Potentialwalls
low-order bit
of the
address bus
niederwertiges Bit des Adressenbusses
magnification
of the
mark from the wafer to the video screen
Vergrößerung der Marke vom Wafer zum Bildschirm
magnitude
of the
input gate voltage
Größe der Eingangsgatespannung
maintain the correct width
of the
feature
die richtige Strukturbreite einhalten
make a vertical transition from the level
of the
IC to the level of the substrate
einen vertikalen Übergang von der IC-Ebene zur Substratebene herstellen
manufacturability
of the
chip-carrier package
Fertigungsmöglichkeit des Chipträgergehäuses
manufacturability
of the
chip-carrier package
Herstellbarkeit des Chipträgergehäuses
mask part
of the
wafer selectively
einen Teil des Wafers selektiv abdecken
mass-bond bumped chips to the inner leads
of the
interconnects
die inneren Enden der Zwischenträger auf die mit Bondhügeln versehenen Chips massenbonden
(simultanbonden)
match the expansion coefficient
of the
chipcarrier ceramic
dem Ausdehnungskoeffizienten des keramischen Chipträgers entsprechen
matrix
of the
mask
Maskenverband
maximize the probability of detecting a failure
die Wahrscheinlichkeit eines Fehlernachweises maximieren
measure
of the
analogue input
Maß für den Analogeingang
measure
of the
sensitivity
Maß für die Empfindlichkeit
measured position
of the
mark
Istposition der Marke
merits
of the
mask aligners
Vorteile der Justier- und Belichtungsanlagen
microlithographic patterning on both sides
of the
wafers
mikrolithografische Strukturierung auf beiden Seiten der Wafer
mid-section
of the
wafer
Mittelbereich des Wafers
minify the image of a variable aperture
das Bild einer veränderlichen Blende verkleinern
minimization
of the
number of process steps
Verringerung der Anzahl der Prozeßschritte
minimize the effect of backscattered electrons
den Effekt rückgestreuter Elektronen verringern
mirror-image pattern
of the
master
Spiegelbildstruktur des Originals
misalignment error
of the
mask
Rasterfehler der Schablone
misplacement
of the
wafer from ideal
Abweichung des Wafers von der idealen Lage
misregistration of one circuit level to another on the wafer
Überdeckungsfehler zwischen zwei Schaltkreisebenen auf dem Wafer
modify the contents of a storage location
den Inhalt einer Speicherzelle ändern
monitor the performance
of the
system
die Leistung der Anlage überwachen
monitor the quality of vendor-supplied components
die Qualität von Zulieferbauelementen überwachen
monitor the rotation
of the
X-Y stage
die Drehung des Koordinatentischs überwachen
motion capability
of the
wafer stage
Bewegungsmöglichkeit des Wafertisches
move the digits out of one end
die Ziffern an einem Ende hinausschieben
move to the location of a fiducial mark den
Ort einer Justiermarke anfahren
movement
of the
doped layer
Bewegung der dotierten Schicht
narrowing
of the
resist line
Verschmälerung der Resistlinie
narrowing
of the
sensitivity span
Einengung des Empfindlichkeitsbereichs
negate the result of a Boolean operation
das Ergebnis einer Booleschen Verknüpfung negieren
non-contiguous areas
of the
memory
nicht-zusammenhängende Speicherbereiche
non-hardware aspects
of the
technology
nicht die Geräte betreffende Gesichtspunkte der Technik
n-side
of the
junction
n-Seite des Übergangs
numerical measure
of the
relative adhesion
Maß für die relative Haftung
occupy the same group of storage locations at different times
dieselbe Gruppe von Speicherzellen zu verschiedenen Zeiten belegen
operate at twice the speed of a 5-V device
mit der zweifachen Geschwindigkeit eines 5-V-Bauelements arbeiten
operating area
of the
output characteristic
Arbeitsbereich der Ausgangscharakteristik
optical portion
of the
system
Optikteil der Anlage
optical transfer
of the
desired imagery on the photomask to the wafer
optische Übertragung der gewünschten Abbildung von der Fotoschablone auf den Wafer
optimized printing
of the
largest available field
optimierte Belichtung des größten verfügbaren Feldes
organization
of the
file
Dateiorganisation
orientation
of the
reticle
Ausrichtung des Retikels
orientation plane
of the
substrate
Orientierungsebene des Substrats
outdiffusion
of the
extra silicon atoms
Ausdiffundierung der zusätzlichen Siliziumatome
outer ends
of the
lead pattern
äußere Enden der Zwischenträgerstruktur
(die auf die Zinken des Anschlußkammes oder direkt auf das Substrat gebondet werden)
outer leads
of the
interconnects
äußere Enden der Zwischenträgerbrükken
outer leads
of the
interconnects
Außenanschlüsse des Zwischenträgers
out-of-flatness
of the
mask and wafer
Unebenheit der Maske und des Wafers
output a 1 in bit position 0
of the
data bus
eine 1 in Bitposition 0 des Datenbusses ausgeben
output impedance
of the
port
Ausgangsimpedanz des Datenkanals
output
of the
circuit
Ausgang der Schaltung
output
of the
reduction camera
Produkt der Reduktionskamera
output
of the
reduction camera
Ergebnis der Reduktionskamera
overall control
of the
memory
Gesamtsteuerung des Speichers
overlap
of the
apertures
Überdeckung der Blenden
overlap
of the
apertures
Überlappung der Blenden
overlapped with the fetching
of the
first word
überlappt mit dem Abrufen des ersten Wortes
overlay accuracy
of the
order of 125 nm
Überdeckungsgenauigkeit in der Größenordnung von 125 nm
overlay
of the
next pattern
Überdeckung der nächsten Struktur
overlay performance
of the
aligner
Überdekkungsleistung des Justiersystems
oversizing
of the
features
Überdimensionierung der Strukturelemente
parallelism
of the
mask-to-wafer spacing
Parallelität des Maske-Wafer-Abstands
partial coherence factor
of the
lens system
Teilkohärenzfaktor des Objektivsystems
partition the circuit function over a set of boards
die Schaltkreisfunktion über mehrere Leiterplatten verteilen
partition the data into pages for ease of access
die Daten in Seiten einteilen zur Erleichterung des Zugriffs
partitioning
of the
wafer image by step-and-repeat projection
Aufteilung des Waferbildes durch schrittweise Projektionsübertragung
partitioning
of the
wafer image by step-and-repeat projection
Unterteilung des Waferbildes durch schrittweise Projektionsübertragung
path
of the
image formation
Abbildungsstrahlengang
pattern the surface
of the
semiconductor wafer
die Oberfläche des Halbleiterwafers strukturieren
peeling
of the
rubylith
Ablösen der Rubylithfolie
pencil layout
of the
circuit
Handzeichnungslayout des Schaltkreises
pencil layout
of the
circuit
Handentwurf des Schaltkreises
percentage area of coverage by the pattern
Bedeckungsgrad
(Anteil der zu belichtenden Strukturfläche an der Gesamtfläche)
perimeter
of the
chip
Chipumfang
periodic refreshing
of the
contents
zeitweiliges Auffrischen des Inhalts
periphery exposure
of the
resist image
Belichtung des Resistbildes am Rand
periphery
of the
wafer
Randbezirk des Wafers
photocompose the pattern from a number of reticle images
die Struktur aus einer Reihe von Retikelbildern zusammensetzen
(montieren)
photographic reduction
of the
artmaster
fotografische Verkleinerung fder Originalvorlage
photomasking step
of the
processing sequence
Maskierungsschritt der Bearbeitungsfolge
pitch angle
of the
X-Y stage
Längsneigungswinkel des Koordinatentisches
pitch
of the
ruled grating
Rastermaß des Gitters
place geometries to an accuracy in the order of 0.2 micrometres
die Strukturen bis zu einer Genauigkeit von etwa 0,2 Mikrometer positionieren
place successive chips in the range of deflection
aufeinanderfolgende Chips in dem Ablenkbereich positionieren
place tight requirements on the flatness
of the
wafer surface
strenge Anforderungen an die Ebenheit der Waferoberfläche stellen
placement
of the
beam
Positionierung des Strahls
placement
of the
beam
Plazierung des Strahls
planarity
of the
wafer
Ebenheit des Wafers
plane at the level
of the
topside of the substrate
Ebene in der Höhe der Oberseite des Substrats
plug into the back
of the
calculator
sich an der Rückseite des Rechners ansetzen lassen
portability
of the
design
Portabilität des Entwurfs
portability
of the
design
Übertragbarkeit des Entwurfs
position
of the
doped layer
Lage der dotierten Schicht
position
of the
error
Fehlerstelle
position
of the
error
Ort des Fehlers
position the beam at the centre of a field
den Strahl in der Mitte eines Feldes positionieren
position the resist within a few micrometres
of the
mask
das Resist in einem Abstand von wenigen Mikrometern von der Maske positionieren
position the X-Y stage with an accuracy of 0.01 μm
den Koordinatentisch mit einer Genauigkeit von 0,01 μm positionieren
(einstellen)
potential in the bulk
of the
silicon
Potential im massiven Material des Siliziums
precipitation of oxygen in the bulk
of the
silicon wafer
Anlagerung von Sauerstoff im Material des Siliziumwafers
precipitation of oxygen in the bulk
of the
silicon wafer
Ablagerung von Sauerstoff im Material des Siliziumwafers
precision setting
of the
mask-wafer gap
Feineinstellung des Abstands Maske-Wafer
printing
of the
zeroth level
Belichtung der nullten Ebene
printout
of the
contents of a file
Ausdruck des Dateiinhalts
processing
of the
first wafer level
Bearbeitung der ersten Waferebene
project duplication
of the
mask onto the wafer
Projektionskopierung der Maske auf den Wafer
project the image
of the
first aperture on a second aperture
das Bild der ersten Blende auf eine zweite Blende projizieren
project the image
of the
mask at one to one magnification on to the wafer
das Bild der Schablone im Verhältnis 1:1 auf den Wafer projizieren
project the shadow
of the
X-ray absorber onto
the polymer film den Schatten des Röntgenstrahlabsorbers auf die Polymerschicht projizieren
property
of the
device
Eigenschaft des Bauelements
prototyping
of the
chips
Prototypherstellung der Chips
provoke deliberately the reappearance of a problem
das erneute Auftreten eines Problems absichtlich hervorrufen
push the devices out
of the
lab door and into new areas
die Bauelemente aus dem Versuchsstadium in neue Anwendungsgebiete überleiten
push the processing operations to the frontier of fabrication technology
die Bearbeitungsverfahren bis an die technologischen Grenzen treiben
put a tremendous amount of thought and work into the project
einen gewaltigen Aufwand an Entwicklungsarbeit in das Projekt investieren
put the architecture of a minicomputer on a single silicon chip
die Architektur eines Kleinrechners auf ein einziges Siliziumchip bringen
raggedness
of the
edges
Rauhigkeit der Kanten
raising
of the
bonding pad
Erhöhen der Bondinsel
rapid advances on all fronts
of the
integrated circuit technology
schnelle Fortschritte in jede Richtung der IC Technik
read out the contents of a memory
den Inhalt eines Speichers auslesen
read the contents
of the
latch
den Inhalt des RS-Flipflops lesen
rear surface
of the
wafer
Rückfläche des Wafers
receive at the inputs
of the
printed circuit boards
an den Eingängen der Leiterplatten empfangen
recheck the alignment
of the
marks
die Justierung der Marken neu kontrollieren
recombine with carriers
of the
opposite type
mit Ladungsträgern des entgegengesetzten Typs rekombinieren
rectangular section
of the
conductor
rechteckiger Querschnitt der Leitbahn
reduce the availability
of the
memory
die Verfügbarkeit des Speichers einschränken
reference surface for the back
of the
wafer
Bezugsfläche für die Rückseite des Wafers
refresh the contents
of the
memory cell
den Inhalt der Speicherzelle auffrischen
registration
of the
mask images from level to level
Überdeckung fder Maskenbilder zwischen den Ebenen
registration
of the
separate masking steps
Oberdekkung fder getrennten Maskierungsschritte
registration requirement
of the
mask design
Überdeckungsanforderung des Maskenentwurfs
relieve the host of time-consuming I-O chores
den Verarbeitungsrechner von zeitraubenden Eingabe-Ausgabe-Arbeiten befreien
relieve the microcomputer of time-consuming tasks
den Mikrocomputer von zeitraubenden Aufgaben befreien
removal
of the
more-soluble material by the developer
Entfernung des löslicheren Materials durch den Entwickler
repeated and rapid turning on and off
of the
system
schnelles wiederholtes Einund Ausschalten der Anlage
replicate microelectronic test structures across the surface of a wafer
mikroelektronische Teststrukturen auf der Waferfläche vervielfältigen
replication of features down to the submicron size
Reproduzierung von Strukturelementen bis in den Submikrometerbereich
requirements for the fabrication of more complex integrated circuits
Anforderungen für die Herstellung komplexerer integrierter Schaltkreise
rerun a portion
of the
program
einen Teil des Programms wiederholen
resonant absorption
of the
energy
Resonanzabsorption der Energie
restore the contents of microprocessor registers
den Inhalt der Mikroprozessorregister umspeichern
resume ordinary operation from the point
of the
interrupt
den normalen Betrieb in der Unterbrechungsstelle wiederaufnehmen
retain the state of control lines
den Zustand von Steuerleitungen erhalten
retardation
of the
stage
Verlangsamung des Tisches
reverse the direction of current
die Stromrichtung umkehren
reverse the nature
of the
state on receipt of an input signal
den Zustand bei Empfang eines Eingangssignals umkehren
rise time
of the
pulse
Anstiegszeit des Impulses
r.m.s. best fitting of seven points on the wafer to the ideal focal plane
bester Ausgleich von sieben Punkten auf dem Wafer in bezug auf die ideale Fokusebene
roll angle
of the
X-Y stage
Querneigungswinkel des Koordinatentisches
roll-off
of the
transistor beta
Abfall der Transistorverstärkung
rotation
of the
array
φ-Ausrichtung der Matrix
sample the quality of masks
die Qualität von Masken stichprobenartig prüfen
saturation point
of the
speed-power curve
Sättigungspunkt der Geschwindigkeit-Leistungs-Kurve
save the contents of microprocessor registers
den Inhalt der Mikroprozessorregister retten
scan an arc-shaped image field of 1 mm width across the wafer
ein bogenförmiges Bildfeld von 1 mm Breite rasterartig über den Wafer führen
scan the electron beam through the vicinity
of the
mark
mit dem Elektronenstrahl die Umgebung der Marke abtasten
scanning
of the
incident electron beam across the specimen surface
Abrastern der Probenoberfläche mit dem einfallenden Elektronenstrahl
schematic
of the
circuit
Schema des Schaltkreises
self-adhesive form
of the
chip layout
Selbstklebeform des Chiplayouts
send out the contents
of the
address onto the input bus
den Inhalt der Adresse in den Eingangsbus senden
sequence
of the
raster-scan exposure process
Ablauffolge des Rasterbelichtungsprozesses
setting
of the
switch
Einstellung des Schalters
settling time
of the
stepping table
Beruhigungszeit des Positioniertisches
shallowness
of the
junction
geringe Tiefe der Sperrschicht
shape
of the
aerial image
Form des Zwischenbildes
shift to the left of two places
Verschiebung um zwei Stellen nach links
shift to the right of three places
Verschiebung um drei Stellen nach rechts
shrink
of the
gates
Verkleinerung der Gates
shut-down
of the
microprocessor
Abschaltung des Mikroprozessors
side
of the
pattern element
Seitenwand des Strukturelements
side
of the
pattern element
Seite des Strukturelements
sign bit
of the
data
Vorzeichenstelle der Daten
sign bit
of the
data
Vorzeichenbit der Daten
size
of the
raster on the CRT screen
Rastergröße auf dem Bildschirm der Elektronenstrahlröhre
Showing first 500 phrases
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