Terms for subject Electronics containing примеси

Russian	English
активация примеси отжигом	annealing activation
акцепторная примесь	p-dopant modifier
акцепторная примесь	p-dopant
алиовалентная примесь	asymmetric impurity
амфотерная примесь	amphoteric impurity
атом легирующей примеси	dopant atom
атом примеси	dopant atom
атом примеси внедрения	interstitial impurity atom
атом примеси внедрения	interstitial atom
атом примеси замещения	substitutional impurity atom
атом примеси замещения	substitutional atom
атомная примесь	atomic impurity
быстроиспаряющиеся примеси	light volatile impurities
введение примесей в полупроводник	drive-in diffusion
введение примеси	impurity doping
введение примеси	doping
вертикальное введение легирующей примеси	depth placement
взаимодействие электронов с примесями	electron-impurity interaction
взвешенная примесь	suspended impurity
внешний источник примесей	external sources of impurities
вносить примеси	dope (в полупроводник)
внутриреакторные источники примеси	internal sources of impurities
водородоподобная примесь	hydrogen-like impurity
водостойкий примесь	Water-resisting admixture
время разгонки примеси	drive time
высокая растворимость примеси	high-impurity solubility
вытеснение примесей	rejection of impurity
газообразный источник примеси	gas-phase impurity source
газообразный источник примеси	gas source (источник газообразной примеси Oleksandr Spirin)
гетеропереход с модуляцией концентрации легирующей примеси	modulation-doped heterojunction
гетероструктура с модуляцией концентрации легирующей примеси	selectively doped heterostructure
гидрофобная примесь	water-repellent admixture
глубокая примесь	deep-lying impurity
глубокая примесь	deep-level impurity
градиент распределения легирующей примеси	dopant gradient
градиент распределения примесей при диффузии	diffusion gradient
грубодисперсная примесь	coarsely dispersed impurity
группирование примесей	impurity bunching
деионизация примесей	impurity deionization
диффузионный поток примеси	impurity diffusion current
диффузия двух различных примесей	differential diffusion
диффузия донорной примеси	n-type diffusion
диффузия примеси p-типа	p-type diffusion
диффундирующая примесь	diffusor
доза имплантируемых ионов примеси	ion-implantation dosage
доля примесей, уносимая парами кипящей воды	carryover rate fraction
дрейфовый транзистор с экспоненциальным распределением примеси	exponentially-graded drift transistor
жидкий источник примеси	liquid-phase impurity source
жидкий источник примеси	liquid source
загонка ионов примеси	predeposit implant
загонка примесей	predeposition diffusion
загонка примесей	predeposition
загонка примесей	predeposition process
загонка примесей	predeposition diffusion process
загонка примесей	deposition diffusion process
загонка примеси	spin-on (первая стадия двухстадийного процесса диффузии)
загонка примеси	predeposition (первая стадия двухстадийной диффузии)
загонка примеси	dopant spin-on
загонка примеси	dopant deposition
загонка примеси	infusion
загонка примеси	prediffusion
зона изменения концентрации примесей	impurity concentration transition zone
изовалентная примесь	symmetric impurity
изоэлектронная примесь	isoelectronic impurity
имплантируемая примесь	implant
ионная примесь	ion impurity
ионная примесь	ionic contaminant
ионно-имплантированная примесь	ion-implanted impurity
ионные примеси	ionogenous impurities
ионогенная примесь	impurity in ionized state
испарение легирующей примеси	dopant evaporation
источник донорной примеси	n-dopant source
источник примеси в твёрдой фазе	solid-phase impurity source
источник примеси в твёрдой фазе	solid impurity source
коллоидная примесь	colloidal impurity
компенсация легирующей примесью	doping compensation
компенсация примеси	impurity compensation
компенсирующая примесь	compensating impurity
концентрация диффундирующей примеси	diffusant-impurity concentration
концентрация имплантированных ионов примеси	dosage concentration
концентрация легирующей примеси	doping concentration
концентрация легирующей примеси	doping density
концентрация легирующей примеси	doping density
концентрация примеси в эмиттерной области	emitter impurity concentration
коэффициент диффузии примесей	impurity diffusion coefficient
коэффициент диффузии примеси	impurity diffusivity
кристалл, окрашенный примесями	additively coloured crystal
кристалл, окрашенный примесями	additively colored crystal
легирование акцепторной примесью	p-type doping
легирование акцепторной примесью	p-dopant incorporation
легирование донорной примесью	n-type doping
легирование компенсирующей примесью	counterdoping
легирование примесью	impurity doping
легирование примесями	lifetime-killer doping
легирование примесями, уменьшающими время жизни неосновных носителей заряда	lifetime-killer doping
легирующая примесь	additive agent
легирующая примесь	impurity dopant
легирующая примесь	dope additive
легколетучие примеси	light volatile impurities
летучая примесь	volatile impurity
локализованная примесь	localized impurity
мазер на оксиде титана с примесью хрома	chromium doped titania maser
мелкая примесь	shallow-lying impurity
мелкая примесь	shallow-level impurity
метод изготовления МОП-структур, в котором длина канала регулируется с помощью процесса "дифференциальной диффузии" примесей	diffusion self-alignment
многоуровневая примесь	multilevel impurity
некомпенсированная примесь	noncompensated impurity
неограниченный источник примеси	infinite source
неокисляющаяся примесь	nonoxidizing dopant
нерастворимая примесь	insoluble impurity
отношение концентраций легирующих примесей	doping ratio
отношение концентраций примесей	concentration ratio
пара типа примесь внедрения-вакансия	Frenkel pair
пара типа примесь внедрения-вакансия	interstitial-vacancy pair
пара примесь внедрения-вакансия	Frenkel pair
пара типа примесь внедрения-вакансия	interstitial-vacancy pair
пара типа примесь внедрения-вакансия	Frenkel pair
перенос ионов примеси	impurity ion transport
перенос легирующей примеси	dopant transfer
переход, полученный методом сегрегации примесей	segregation junction
плавно меняющаяся концентрация примеси	graded-impurity concentration
полупроводник с акцепторной примесью	acceptor-impurity semiconductor
полупроводник с донорной примесью	donor-impurity semiconductor
полупроводниковый прибор с очень низкой концентрацией примесей в области эмиттера	low emitter concentration (device)
поляризуемая примесь	polarizable impurity
прибор для измерения профиля распределения легирующей примеси	doping profiler
примесь в базовой области	base impurity
примесь в кристалле	crystal impurity
примесь внедрения	interstitial impurity
примесь водорода	H. T. delay time
примесь для скрытого слоя коллектора	buried-collector dopant
примесь для создания состояний на границе раздела	interfacial dopant
примесь для формирования ограничителя канала	channel-stopper impurity
примесь, имплантируемая для формирования p-n-перехода	barrier implant
примесь, создающая глубокий уровень	deep-level impurity
примесь, создающая несколько уровней	multilevel impurity
примесь, уменьшающая время жизни носителей заряда	carrier killer
проникновение примеси	impurity penetration
прослоек включение примесей	impurity band
профиль распределения концентрации примеси	concentration profile
профиль распределения легирующей примеси	dopant profile
профиль распределения легирующей примеси по глубине	depth profile
профиль распределения примеси	impurity profile
профиль распределения примеси при ионной имплантации	ion-implantation profile
процент примесей	impurity level
процесс загонки примеси	predeposition diffusion process (первая стадия двухстадийной диффузии)
процесс загонки примеси	predeposition process (первая стадия двухстадийной диффузии)
процесс загонки примеси	deposition diffusion process (первая стадия двухстадийной диффузии)
процесс разгонки примеси	drive-in diffusion process (вторая стадия двухстадийной диффузии)
равномерность распределение легирующей примеси	doping uniformity
разгонка примесей	drive-in
разгонка примесей	drive-in diffusion
разгонка примесей	drive-in diffusion process
разгонка примеси	drive-in (вторая стадия двухстадийной диффузии)
разгонка примеси	drive-in diffusion (вторая стадия двухстадийной диффузии)
разгонка примеси для формирования базовой области	base drive-in
разгонка примеси из газообразного источника	gaseous-source predeposition
разновалентная примесь	asymmetric impurity
распределение легирующей примеси по глубине	depth distribution
рассеяние на нейтральных примесях	neutral-impurity scattering
рассеяние электронов на примесях	electron-impurity scattering
растворимая примесь	soluble impurity
регулирование глубины проникновения примесей	depth control
регулирование концентрации примесей	doping modulation
сверхрешётка с модуляцией концентрации легирующей примеси	doping superlattice
сенсибилизация примесей	impurity sensitization
скомпенсированная примесь	compensated impurity
следовая примесь	trace impurity
следы примеси	traces of impurity
следы примеси	trace impurity
слой с гауссовским распределением концентрации легирующей примеси	Gaussian-doped layer
слой с гауссовским распределением концентрации примеси	Gaussian-doped layer
содержащиеся в воде примеси	water borne contaminant
содержащий примеси	coarse
спин примеси	impurity spin
способ загонки примеси	spin-on technique
стадия загонки примесей	predeposition step
стадия загонки примесей	predeposition step of diffusion
стадия разгонки примесей	drive-in step of diffusion
твёрдый источник легирующей примеси	dopant host
твёрдый источник примеси	solid-phase impurity source
травитель, чувствительный к примесям	impurity-sensitive etchant
туннелирование примесей	impurity tunneling
углеродная донорская примесь	carbon donor
уран без примеси дочерних продуктов распада	uranium free from its daughters
цикл разгонки примесей	drive-in cycle
экспоненциальное плавное распределение примеси	exponential grading
электрически активная примесь	electrically active impurity
эпоксидная смола с примесью стекла	glass impregnated epoxy