| Russian | English |
| алмазная плёнка, полученная по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-produced diamond film |
| диоксид кремния, изготовленный по технологии разделения слоёв подложки ионной имплантацией с насыщением кислородом | SIMOX-fabricated silicon dioxide |
| изготовленный по технологии восходящего производства | bottom-up-fabricated |
| изготовленный по технологии молекулярного наслаивания | MLT-fabricated |
| изготовленный по технологии нисходящего производства | top-down-fabricated |
| изготовленный по технологии нисходящего производства | top-bottom-fabricated |
| изготовленный по технологии "сверху-вниз" | top-down-fabricated (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| изготовленный по технологии "сверху-вниз" | top-bottom-fabricated (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| изготовленный по технологии "снизу-вверх" | bottom-up-fabricated |
| изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-technology-formed |
| изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-technology-formed |
| кремниевая нанопроволока, изготовленная по технологии нисходящего производства | top-down-fabricated silicon nanowire |
| кремниевая нанопроволока, изготовленная по технологии нисходящего производства | top-bottom-fabricated silicon nanowire |
| кремниевая нанопроволока, изготовленная по технологии "сверху-вниз" | top-down-fabricated silicon nanowire |
| кремниевая нанопроволока, изготовленная по технологии "сверху-вниз" | top-bottom-fabricated silicon nanowire |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| материал, полученный по зольгель технологии | sol-gel material |
| микроминиатюризация по технологии нисходящего производства | top-down microminiaturization |
| микроминиатюризация по технологии нисходящего производства | top-bottom microminiaturization |
| микроминиатюризация по технологии "сверху-вниз" | top-down microminiaturization (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| микроминиатюризация по технологии "сверху-вниз" | top-bottom microminiaturization (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| миниатюризация по технологии нисходящего производства | top-down miniaturization |
| миниатюризация по технологии нисходящего производства | top-bottom miniaturization |
| миниатюризация по технологии "сверху-вниз" | top-down miniaturization (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| миниатюризация по технологии "сверху-вниз" | top-bottom miniaturization (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| модель формирования молекулярного ансамбля по восходящей технологии | bottom-up molecular assembly model |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии молекулярного наслаивания | MLT-formed monolayer |
| мультислой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition technology-formed multilayer |
| мультислой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-technology-formed multilayer |
| мультислой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition technology-formed multilayer |
| мультислой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-technology-formed multilayer |
| мультислой, образованный по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology-formed multilayer |
| мультислой, образованный по технологии молекулярного наслаивания | MLT-formed multilayer |
| МЭМС, созданная по технологии "сверху-вниз" | top-down technology-based microelectromechanical system (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| МЭМС, созданная по технологии "сверху-вниз" | top-bottom technology-based microelectromechanical system (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| нанодисперсный материал, полученный по технологии "сверху-вниз" | top-down nanodispersed material (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| нанодисперсный материал, полученный по технологии "сверху-вниз" | top-bottom nanodispersed material (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| наноинженерии и нанотехнологии комитета по технологии Национального совета по науке и технике США | NSET subcommittee |
| наноматериал, полученный по технологии "сверху-вниз" | top-down technology-based nanomaterial (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| наноматериал, полученный по технологии "сверху-вниз" | top-bottom technology-based nanomaterial (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| наноматериал, полученный по технологии "снизу-вверх" | bottom-up technology-based nanomaterial (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | atomic layer deposition technology-produced nanofilm |
| нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | ALD technology-produced nanofilm |
| нанопленка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology produced nanofilm |
| нанопленка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | MLT-produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | atomic layer deposition technology-produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | ALD technology-produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | MLT-produced nanofilm |
| нанопроизводство по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного выращивания | plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного выращивания | PECVD-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-based nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-fabricated nanostructure |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из газовой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из паровой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| НЭМС, созданная по технологии "снизу-вверх" | bottom-up technology-based nanoelectromechanical system (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| оптическая система с кремнийорганическим покрытием по технологии газофазного осаждения | vaporized silicon coating optics |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| плёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology-fabricated film |
| плёнка, изготовленная по технологии молекулярного наслаивания | MLT-fabricated film |
| плёночное покрытие по ионно-плазменной технологии | ion-plasma technology-produced film coating |
| подложка, выполненная по технологии "кремний-на-диэлектрике" | SOI substrate |
| подложка, выполненная по технологии "кремний-на-диэлектрике" | silicon-on-insulator substrate |
| подложка, выполненная по технологии "кремний-на-изоляторе" | SOI substrate |
| подложка, выполненная по технологии "кремний-на-изоляторе" | silicon-on-insulator substrate |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений | metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | low-pressure metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor |
| производство горючего и электроэнергии по технологии инерциально-термоядерного синтеза | ICF fuel/power production |
| производство по МЛЭ-технологии | molecular beam epitaxy fabrication |
| производство по МЛЭ-технологии | MBE fabrication |
| производство по технологии инерциально-термоядерного синтеза | inertial-confinement fusion production |
| производство по технологии молекулярно-лучевой эпитаксии | molecular beam epitaxy fabrication |
| производство по технологии молекулярно-лучевой эпитаксии | MBE fabrication |
| производство по технологии "сверху-вниз" | top-down manufacturing (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| производство по технологии "сверху-вниз" | top-bottom manufacturing (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| производство по технологии "снизу-вверх" | bottom-up manufacturing (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| производство по эпитаксиальной технологии | epitaxy fabrication |
| производство по эпитаксиальной технологии | epitaxial fabrication |
| процесс производства по технологии "сверху-вниз" | top-down process (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| процесс производства по технологии "сверху-вниз" | top-bottom process (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| процесс производства по технологии "снизу-вверх" | bottom-up process (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| процесс производства по эпитаксиальной технологии | epitaxy fabrication process |
| процесс производства по эпитаксиальной технологии | epitaxial fabrication process |
| процесс, реализуемый по золь-гель технологии | spin-on-glass process |
| процесс, реализуемый по зольгель технологии | sol-gel process |
| реакция материала при производстве по технологии "сверху-вниз" | top-down material response |
| реакция материала при производстве по технологии "сверху-вниз" | top-bottom material response |
| самособираемые по эпитаксиальной технологии молекулы с квантовой точкой | self-assembling epitaxial quantum dot molecules |
| сборка по восходящей технологии | bottom-up assembly |
| сенсор, изготовленный по технологии микрообработки | micromachining technology-based sensor |
| синтез по восходящей технологии | bottom-up synthesis |
| синтез по золь-гель технологии | sol-gel synthesis |
| синтез по нисходящей технологии | top-down synthesis |
| синтез по нисходящей технологии | top-bottom synthesis |
| синтез по технологии химического газофазного осаждения | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| собранный по технологии восходящего производства | bottom-up-assembled |
| собранный по технологии "снизу-вверх" | bottom-up-assembled (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| средства производства по технологии "сверху-вниз" | top-down fabrication instruments (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| средства производства по технологии "сверху-вниз" | top-bottom fabrication instruments (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| средства производства по технологии "снизу-вверх" | bottom-up fabrication instruments (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| твёрдый электролит, произведённый по планарной технологии | planar technology-produced electrolyte |
| технологии ПО | software technologies |
| УНС, изготовленная по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition-fabricated nanostructure |
| УНС, изготовленная по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-fabricated carbon nanostructure |
| УНС, полученная по технологии химического газофазного осаждения | CVD-based carbon nanostructure |
| УНС, полученная по технологии химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition-based carbon nanostructure |
| установка для синтеза по технологии химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического газофазного осаждения | CVD synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis facility |
| формирование молекулярного ансамбля по восходящей технологии | bottom-up molecular assembly |
| формирование по восходящей технологии | bottom-up formation |
| формирование по ГФХО-технологии | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по МГ ФХО-технологии | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по МЛЭ-технология | MBE-technology-assisted formation |
| формирование по МПЭ-технологии | MBE-technology-assisted formation |
| формирование по нисходящей технологии | top-down formation |
| формирование по нисходящей технологии | top-bottom formation |
| формирование по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии газофазного химического осаждения | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии молекулярного наслаивания | molecular layering technology-assisted formation (напр., нанопленки) |
| формирование по технологии молекулярного наслаивания | MLT-assisted formation (напр., нанопленки) |
| формирование по технологии молекулярно-лучевой эпитаксии | MBE-technology-assisted formation |
| формирование по технологии молекулярно-пучковой эпитаксии | MBE-technology-assisted formation |
| формирование по технологии "сверху-вниз" | top-down formation (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| формирование по технологии "сверху-вниз" | top-bottom formation (основанной на разрушении массивного материала до уровня наночастиц) |
| формирование по технологии "снизу-вверх" | bottom-up formation (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование рисунка по нисходящей технологии | top-down patterning |
| формирование рисунка по технологии "сверху-вниз" | top-down patterning |
| электроника, собранная по технологии восходящего производства | bottom-up-assembled electronics |
| электроника, собранная по технологии "снизу-вверх" | bottom-up-assembled electronics (основанной на объединении атомов, молекул и их совокупностей до получения наночастиц) |
