Terms for subject Microelectronics containing использование

Russian	English
алгоритм восстановления при появлении ошибки с использованием возврата	backward error recovery algorithm
анализ отказов с использованием жидкокристаллических кристаллов	liquid-crystal failure analysis
вариант резервирования с использованием лазерного выжигания перемычек	laser redundancy option
вариант управления с использованием микропрограммирования	microprogrammed control option
визуальный контроль с использованием рентгеновских лучей	x-ray visual
диффузия с использованием маски	masked diffusion
изготавливаемая по заказу интегральная схема, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built IC designed to address a specific application (ssn)
изготавливаемая по заказу интегральная схема, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built integrated circuit designed to address a specific application (ssn)
изготавливаемая по заказу ИС, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built IC designed to address a specific application (ssn)
изготавливаемая по заказу ИС, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built integrated circuit designed to address a specific application (ssn)
изготавливаемая по заказу микросхема, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built IC designed to address a specific application (ssn)
изготавливаемая по заказу микросхема, предназначенная для использования в специфичных приложениях	custom-built integrated circuit designed to address a specific application (ssn)
изготовление с использованием ЭВМ	computer-aided preparation
ИС, изготовленная с использованием трёх фотошаблонов	tri-mask integrated circuit
ИС изготовленная с использованием эпитаксиальной технологии	epitaxial integrated circuit
использование площади кристалла	chip utilization
литография с использованием синхротронного излучения	synchrotron lithography
литография с использованием УФ-излучения	ultraviolet lithography
манипулятор с использованием стандартного механического интерфейса	SMIF arm
маскирование с использованием промежуточного фотошаблона	reticle masking
метод выращивания кристаллов с использованием холодного тигля	cold-crucible technique
метод диффузии с использованием оксидных масок	masked diffusion technique
метод изоляции с использованием вертикального анизатропного травления	V-ATC technique
метод изоляции с использованием ионной имплантации	implantant-isolation technique
метод фотолитографии с использованием дальнего ультрафиолетового излучения	deep-ultraviolet photolithographic technology
метод фотолитографии с использованием ультрафиолетового излучения	ultraviolet photolithography technology
моделирование неисправностей с использованием дедуктивного алгоритма	deductive fault simulation
обработка с использованием рельефных масок	relief-mask processing
планарно-эпитаксиальная технология с использованием нескольких эпитаксиальных слоёв	multiple-epitaxial planar technology
подгонка с использованием лазерного ила электронного луча	zapping
подгонка с использованием стабилитронов	zener zapping
проектирование ИС с использованием последовательных регистровых передач	level-sensitive scan design
проектирование с использованием произвольной логики	random-logic design
проектирование с использованием регулярной логики	regular-logic design
проигрыш в использовании кремниевого кристалла	loss of silicon area
процесс для формирования схем металлических межсоединений на пластинах с использованием химико-механической полировки взамен травления металла	damascene (NNB)
рекристаллизация без использования затравки	seedless recrystallization
рекристаллизация с использованием затравки	seeded recrystallization
САПР, полностью готовая к использованию	turnkey CAD system
синтез с использованием стандартных ячеек	standard cell synthesis
совмещение с использованием двойной дифракционной решётки	double-diffraction alignment
совмещение с использованием дифракционной решётки	diffraction grating alignment
совмещение с использованием френелевских зон	Fresnel-zone alignment
специализация ИС с использованием двухслойной металлизации	double-layer metal personalization
степень использования	utilization factor
степень использования логических элементов	gate utilization
технология ИС с использованием легирования золотом	gold-doped process
технология ИС с использованием трёх фотошаблонов	tri-mask technique
технология ИС с использованием трёх фотошаблонов	three-mask process
установка литографии с использованием ультрафиолетового излучения	uv exposure system
установка литографии с использованием УФ-излучения	uv exposure system
формирование изображений с использованием мозаичной матрицы	mosaic imagery
формирование рисунка без использования фоторезистора	resistless patterning
фотолитография с использованием фоторезистов на основе диазосоединений	diazo imagery
частично-целочисленное программирование с использованием алгоритма ветвей	branch-bound mixed integer programming
эпитаксия с использованием затравочного кристалла	seeding epitaxy