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Electronics
containing
曝
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Chinese
English
一次
曝
光两次显影
single expose double develop
三维体
曝
光光学光刻模拟程序
simulator for optical lithography three-dimensional volume exposure
专用
曝
光开关
快门
X射线光刻
special exposure shutter
主
曝
光窗口
primary exposure window
二维
曝
光光强图形模拟程序
simulator for two-dimensional intensity pattern in aligner
光电阴极电子投影
曝
光机
photocathode electron projector
全圆片同时
曝
光
full wafer exposure
全息
曝
光指数
holographic exposure index
全视场
曝
光系统
full field exposure system
分步投影
曝
光机
stepping-projection mask aligner
双
曝
光
工艺
double exposure
process
双
曝
光全息照相术
double exposure holography
双
曝
光法
double exposure method
双
曝
光终点检测技术
double-exposure end-point detection
(technique)
双面
曝
光水冷壁
division wall
发光二极管间接
曝
光技术
LED indirect exposure
可变轴线浸没透镜投影
曝
光
projection exposure with variable axis immersion lenses
可移动软接触掩蔽
曝
光法
portable conformable masking method
同时
曝
光与显影
simultaneous exposure and development
同时
曝
光与显影技术
simultaneous exposure and development technique
国际商业机器公司自动聚焦对准投影
曝
光机
IBM auto focus align
圆片电子束
曝
光机
wafer electron beam printer
圆片直接
曝
光
direct wafer exposure
圆片载带
曝
光系统
wafer tape exposure system
多重电子束
曝
光系统
multiple electron beams exposure system
大
曝
光间隙光学系统
large exposure gap optics
X射线
曝
光量
X-ray exposure
尼康分步重复
曝
光系统
Nikon step-and-repeat exposure system
局部
曝
光剂量控制
local exposure dose control
局部额外
曝
光
burn in
平台装置式
曝
气器
充气器;通风机
platform-mounted aerator
归一化
曝
光剂量
normalized exposure dosage
扩大调焦范围
曝
光
技术
focus latitude enhancement exposure
扫描投影
曝
光机
scanning-projection mask aligner
抗蚀剂
曝
光邻近效应自洽校正技术
self-consistent proximity effect correction technique for resist exposure
整片
曝
光
full wafer exposure
曝
光
量
控制技术
exposure control technique
曝
光
剂
量范围
exposure latitude
曝
光
剂
量范围参数
exposure latitude parameter
曝
光不足光致抗蚀剂
underexposed photoresist
曝
光值
light value
曝
光光致抗蚀剂
exposed photoresist
曝
光剂量分布模型
exposure dose distribution model
曝
光剂量范围
容度
exposure dose latitude
曝
光后放置时间
post exposure delay time
曝
光后焙烘
post-exposure baking
曝
光工位
exposure station
曝
光工段
exposure station
曝
光引生潜像
exposure induced latent image
曝
光强度分布
函数
exposure intensity distribution
function
曝
光强度变差法
exposure intensity variation method
曝
光机
mask aligner
曝
光比率计
exposure rate meter
曝
光潜像
exposure induced latent image
曝
光率
exposure rate
曝
光-离焦树
exposure-defocus tree
曝
光表
photo meter
曝
光计
表
exposure meter
曝
光过久
over exposure
曝
光量
illumination quantity
曝
光量下限
lower exposure limit
曝
光量-接近间隙关系曲线
gap-exposure diagram
曝
光量-离焦量关系曲线
exposure-defocus diagram
曝
光量-离焦量树
exposure-defocus tree
曝
光量阈值
exposure threshold
曝
光量限制
exposure limit
曝
晒蒸发池
solar evaporation pond
曝
辐射量
radiant exposure
未
曝
光的
核
unexposed
机械
曝
气管
mechanical aerator
束斑扫描
曝
光模拟程序
simulator for spot scanning exposure
激光引
曝
laser-supported detonation
点
曝
光剂量分布函数
point exposure distribution function
特征尺寸-
曝
光剂量依从关系
feature size depending dose
生产级电子束
曝
光系统
manufacturing electron beam exposure system
电子
曝
光
electronic exposure
电子束
曝
光用化学放大式甲硅烷基抗蚀剂
silylating resist using chemical amplification for electron beam
直写式分步重复电子束
曝
光
direct writing step-and-repeat electron-beam exposure
直接
曝
光膜
direct exposure film
直接分步
曝
光
direct stepping exposure
相干截止
曝
光线宽
linewidth at the coherent cutoff
矢量扫描电子束
曝
光机
vector scan electron beam machine
磁锥焦管光电阴极电子投影
曝
光机
magnetic funnel photocathode electron projector
离子束投影
曝
光机
ion beam projector
离子束接近
曝
光机
ion beam proximity printer
移相掩模边缘增强
曝
光对准补偿法
PSM exposure alignment compensation method for edge enhancement
自动
曝
光
量
控制
automatic exposure control
自动
曝
光
量
控制技术
automatic exposure control technique
自动
曝
光表
automatic exposure meter
表面
曝
充
气
法
surface aeration
计算机控制电子束
曝
光系统
computer-controlled electron beam exposure system
转子式
曝
气
法
rotor aeration
轻
曝
光量抗蚀剂
resist for a light exposure
过
度
曝
光
over exposure
连续多重扫描
曝
光
continuous multiple scanning exposure
迭加
曝
光量法
repeated exposures method
透射比-
曝
光量关系曲线
transmittance-exposure curve
邻区
曝
光量
proximity exposure
邻区
曝
光量补偿
proximity exposure compensation
邻近
曝
光
效应
proximity exposure
邻近
曝
光
效应
校正
proximity exposure compensation
重复
曝
光法
repeated exposures method
间歇多重扫描
曝
光
intermittent multiple scanning exposure
(SRXL)
限制实际
曝
光时间
limiting actual exposure time
高压电子束
曝
光系统
high voltage electron beam exposure system
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