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Terms for subject Microelectronics containing of | all forms | exact matches only
EnglishGerman
abandon the strict Harvard architecture of the microcomputerdie strenge Harvard-Architektur des Mikrocomputers aufgeben
abrupt onset of backscatterplötzliches Einsetzen der Rückstreuung (Elektronenstrahllithografie)
absence of backscattering effectsFehlen von Rückstreueffekten
absence of direct addressing instructionsFehlen von Direktadressierungsbefehlen
absence of error in a set of dataFehlerfreiheit in einem Datensatz
acceleration of the stageBeschleunigung des Tisches
acceptor of informationDatenannahmestation
access portion of the cyclesZugriffsabschnitt der Operationszyklen
access time of the storeZugriffszeit des Speichers
accommodation of alternate input formatsErfassung von Alternativeingabeformaten
accurately dimensioned picture of the integrated circuit chipBild des integrierten Schaltkreises mit genauen Dimensionen
accurately scaled representation of the integrated circuit chipmaßstäblich genaue Darstellung der integrierten Schaltung
acquisition range of the fine-alignment systemErfassungsbereich des Feinjustiersystems
act selectively on different areas of the waferselektiv auf verschiedene Flächen des Wafers wirken
active edge of the clockaktive Taktsignalflanke
actual X-Y location of each element in the arraytatsächlicher Koordinatenort jedes Elements in der Matrix
acuity of image edgesSchärfe der Bildkanten
added Operation of bumping the waferzusätzlicher Arbeitsgang der Bondhügelherstellung auf dem Wafer
addition of copper during the aluminium evaporationZugabe von Kupfer während der Aluminiumaufdampfung
addition of dyeFarbstoffzusatz
addition of recordsHinzufügen von Sätzen
additional item of informationzusätzliches Datenelement
address part of an instructionAdreßteil eines Befehls
address part of an instructionAdressenteil eines Befehls
adhesion of the resistHaftung des Resists (am Substrat)
adhesive effect of thick film pasteHafteffekt der Dickschichtpaste
adjust the beam position during the writing of subsequent stripesdie Strahlposition während des Schreibens der folgenden Streifen justieren
adjustment of mask pattem positionEinstellung der Maskenstrukturlage
adjustment of the film resistor valueTrimmen des Schichtwiderstandswertes
adjustment of the film resistor valueAbstimmung des Schichtwiderstandswertes
adjustment of the lens-to-wafer separationEinstellung des Objektiv-Wafer-Abstands
advancing state-of-the-art in semiconductor fabrication processesfortschreitend höherer Entwicklungsstand der Halbleiterfertigungsverfahren
advent of electron-beam microfabricationEinführung der ES-Mikrostrukturherstellung
aging of selenium rectifiersAlterung von Selengleichrichtern
align parallel to the X-axis motion of the stageparallel zur x-Richtung der Tischverschiebung justieren
alignment marks consisting of groovesVertiefungsmarken
alignment marks consisting of raised pedestalsErhebungsmarken
alignment of successive lithographic levels on a waferJustierung aufeinanderfolgender lithografischer Ebenen auf einem Wafer
alignment of the tape leads to the chip bumpsJustage der Zwischenträger zu den Bondhügeln der Chips
alignment of the tape leads to the chip bumpsAusrichtung der Zwischenträger zu den Bondhügeln der Chips
alignment system of a wafer stepperJustiersystem eines Überdeckungsrepeaters
allocate the time of a central processor to a specific jobdie Zeit eines Zentralprozessors einem bestimmten Job zuweisen
allocation of registersZuordnung der Register
allow the transfer of data between computersdie Übertragung von Daten zwischen Rechnern ermöglichen
alter the contents of the memoryden Speicherinhalt ändern
ambient temperature of the package environmentUmgebungstemperatur des Gehäuses
amount of autodopingUmfang der Selbstdotierung
amount of autodopingAusmaß der Selbstdotierung
amount of carriersAnzahl der Ladungsträger
amount of electrical testingUmfang der elektrischen Prüfung
amount of engineering efforttechnischer Aufwand
amount of reworkReparaturaufwand
amount of software timeAufwand an Softwarezeit
analysis of measured dataAuswertung von Meßdaten
angle of incidence of the X-raysEinfallswinkel der Röntgenstrahlen
angle of the slopeBöschungswinkel
annealing of imperfectionsAusheilen von Gitterfehlem
application of dopant by spinningAufschleudern des Dotierungsstoffs
application of dopant by spinningAufbringen des Dotierungsstoffs durch Ausschleudern
apply a layer of photoresist uniformly to the oxidized siliconeine Fotoresistschicht gleichmäßig auf das oxydierte Silizium aufbringen
apply a thick layer of a resist to the wafereine dicke Resistschicht auf dem Wafer aufbringen
apply just one drop of solution to the surfacenur einen Lösungstropfen auf die Oberfläche bringen (Schleuderbeschichtung)
approach the limits of optical lithographyan die Grenzen der optischen Lithografie herankommen
approach the resolution limits of light opticsdie Auflösungsgrenzen der Lichtoptik annähernd erreichen
approximate location of the fiducial markannähernde Lage der Justiermarke
architecture of a bufferAufbau eines Pufferspeichers
area of bondBondfläche
area of memorySpeicherfeld
area of memorySpeicherbereich
area of storeSpeicherfeld
area of storeSpeicherbereich
area ratio of chip to PWBFlächenverhältnis von Chip zu Leiterplatte
arrange binary digits in groups of fourBinärziffern in Vierergruppen anordnen
arrange the pins around all four sides of the packagedie Anschlußstifte auf allen vier Seiten des Gehäuses anordnen
arrangement of data in a recordAnordnung der Daten in einem Satz
arrangement of parts of a computer instructionAnordnung von Teilen eines Maschinenbefehls
array of alignment targets on a waferJustiermarkenanordnung auf einem Wafer
array of chipsChipreihe
array of chipsChipverband
array of crossesMatrix fvon Kreuzen
array of dice on a photomaskVerband von Einzelbildern auf einer Fotomaske
array of final-size patternsregelmäßige Anordnung von Strukturen endgültiger Größe
array of one millimetre squaresMatrix von Quadraten mit 1 mm Kantenlänge
array of test instrumentsAufgebot von Prüfgeräten
array of test instrumentsMenge von Prüfgeräten
array of unconnected logic gatesUniversalschaltkreis
array of unconnected logic gatesvorgefertigter Standardschaltkreis (integrierte Schaltung, deren endgültige Funktion vom Benutzer festgelegt wird)
array of unconnected logic gatesnicht gebundene logische Anordnung
array of unconnected logic gatesfreie logische Anordnung
array of unconnected transistor-transistor logic gatesTTL-Standardschaltkreis
arrival of data at one point at the same timegleichzeitiges Eintreffen der Daten in einem Punkt
assembly of electronic componentsBaugruppe elektronischer Elemente
assembly of subcircuitsZusammensetzung von Teilschaltkreisen
assembly of subcircuitsMontage von Teilschaltkreisen
assigned part of the frequency spectrumzugewiesener Teil des Frequenzbereichs
assume one of two possible stateseinen von zwei möglichen Zuständen annehmen (z. B. 0 oder 1)
assurance of obtaining ± 5% repeatabilitySicherheit einer erreichbaren Reproduzierbarkeit von ± 5%
astigmatism of the probeAstigmatismus der Sonde
asynchronous communications using the serial input-output features of the microprocessorasynchrone Datenübertragung mit seriell arbeitenden Eingabe-Ausgabe-Systemen des Mikroprozessors
attach the chip carrier to the ceramic board by means of solder reflowden Chipträger auf dem Keramiksubstrat durch Aufschmelzlöten befestigen
audit of the logical and electrical integrity of the layoutPrüfung der logischen und elektrischen Integrität des Layouts
automate every step of the bonding operationjeden Schritt des Bondvorgangs automatisieren
automatic inspection of mask defectsautomatische Defektkontrolle
automation of portions of the mask making processAutomatisierung von Teilen des Schablonenfertigungsprozesses
autoroute 80 % of the p.c. board/to 80 %der Leiterplattenverbindungen automatisch herstellen
availability of the stored information at the output of the memoryVerfügbarkeit der gespeicherten Daten am Speicherausgang
avalanche mode of operationLawinenbetriebsweise
average of 30 % coveragemittlerer Bedeckungsgrad von 30 %
average of ten measurementsMittelwert von zehn Messungen
average over a number of readingsüber eine Reihe von Meßwerten mitteln
average width of the featuremittlere Strukturbreite
back direction of a rectifying^ contactSperrrichtung eines Gleichrichterkontakts
backscattering of primary electronsRückstreuung von Primärelektronen
backside-bonded of the waferRückseite des Wafers
balance loss of electrons due to diffusionElektronenverlust infolge Diffusion ausgleichen
barrier voltage of the emitter junctionSperrschichtspannung des Emitterübergangs
basic design of the circuitprinzipieller Schaltungsaufbau
basic part of a computer systemGrundeinheit einer Rechenanlage
basic types of mask alignersGrundtypen von Maskenjustier- und Belichtungsanlagen
battery of instrumentsGruppe von Geräten
beam tape carrier technology for automated bonding of semiconductor chipsZwischenträgertechnik für automatisches Bonden von Halbleiterchips
bed-of-nails test fixtureNagelbett-Testanordnung
beginning-of-file labelDateivorsatz
beginning-of-file labelDateianfangskennsatz
beginning-of-file section labelDateiabschnittsanfangskennsatz
beginning-of-information markerAnfangsmarke (auf einem Magnetband)
beginning of the instructionBefehlsanfang
beginning of the recording areaAnfang der Speicherfläche
bending of pinsAbwinkeln der Anschlußbeine
bending of the conduction and valence bandsKrümmung des Leitungs- und Valenzbandes
beta gain of transistorsStromverstärkungsfaktor von Transistoren
beta gain of transistorsStromverstärkung von Transistoren
binary logic of ComputersBinärlogik von Rechnern
binary number of particular significanceDualzahl von besonderer Bedeutung
binary number of particular significanceBinärzahl von besonderer Bedeutung
binary scale of notationZweiersystem
binary scale of notationDualsystem
binary scale of notationBinärsystem
binding energy of the electronBindungsenergie des Elektrons
bit position 0 of the data busBitposition 0 des Datenbusses
bits of silicon from the waferSiliziumteilchen vom Wafer
bleed-out of glassAusfließen von Glas (z. B. auf einem Substrat)
blown-up portion of an IC patternvergrößerter Teil einer integrierten Schaltkreisstruktur
blurring of the imageVerschleierung des Bildes
blurring of the imageUnschärfe des Bildes
board-level isolation of mainframe failuresStörungslokalisierung in Rechnern auf Leiterplattenebene
board-level isolation of mainframe failuresEingrenzung von Rechnerfehlern auf Leiterplattenebene
bombardment of charged particlesBeschuß mit geladenen Teilchen
bombardment of energetic ionsEinschuß energiereicher Ionen
bombardment of energetic ionsBeschuß mit energiereichen Ionen
bond bumped chips to the inner leads of the interconnectsdie inneren Enden des Zwischenträgers auf die mit Bondhügeln versehenen Chips bonden
bond the inner leads of the tape pattern to the bumped terminal pads of an IC chipdie inneren Enden der Folienstruktur auf die Bondhügel eines Chips bonden
bonding head for numerical control positioning of large substratesBondkopf für numerisch gesteuerte Positionierung großer Substrate
bonding of chip devicesBonden von Chipelementen
bonding of multiple leadsBonden mehrfacher Anschlüsse
boost performance by a factor of as much as 10die Leistung um einen Faktor von nicht weniger als 10 steigern
boost the driving capability of a microprocessordie Treiberleistung eines Mikroprozessors verstärken
border of the depletion regionGrenze der Verarmungszone
bore of the projection lensBohrung des Projektionsobjektivs
bottom-brazed edge of the die pattemuntere Kante der Einzelbildstruktur
bridging of adjacent linesÜberbrückung benachbarter Linien
broaden the effective size of a focussed beamden effektiven Durchmesser eines fokussierten Strahls vergrößern
broadening of step edgesBöschungsverbreiterung
broadening of step edgesVerbreiterung der Böschungskante
build up an arbitrarily large circuit out of increasingly complex cellseinen beliebig großen Schaltkreis aus zunehmend komplexen Zellen aufbauen
build up patterns by repeated generation of subfieldsStrukturen durch wiederholte Herstellung von Teilfeldern zusammensetzen
build up the entire chip out of progressively larger blocksdas gesamte Chip aus zunehmend größeren Funktionsblöcken aufbauen
build up the total image of a circuit from rectanglesdie Gesamtstruktur eines Schaltkreises aus Rechtecken zusammensetzen
build-up of a space charge regionAufbau eines Raumladungsbereichs
build-up of background exposureEntwicklung einer Untergrundbelichtung
build-up of background exposureEntstehung einer Untergrundbelichtung
build-up of chargesLadungsaufbau
bulk of the pattern dataMasse der Strukturdaten
bulk of the waferVolumen des Wafers (im Gegensatz zur Oberflächenschicht)
bump symmetry on all four sides of a chipBondhügelsymmetrie auf allen vier Seiten eines Chips
bumping of the padBondhügelherstellung
bumping of the padErhöhen der Bondinsel
burst of errorFehlerbündel
butting of subfieldsAneinandersetzung von Unterfeldern
butting of subfieldsAneinanderreihen von Unterfeldern
bypass a low-yielding part of the mask making processeinen Teil des Maskenherstellungsprozesses mit geringer Ausbeute umgehen
bypass many of the mask operationsviele Maskenoperationen umgehen
byte size of the machineBytegröße des Rechners
calculation to five places of decimalsBerechnung auf fünf Dezimalstellen
capacitance of the p-n junctionSperrschichtkapazität
capture the state of the logicden Zustand der Logik erfassen
carrier of inner-lead-bonded chipsZwischenfilm innengebondeter Chips
carrier of inner-lead-bonded chipsTräger innengebondeter Chips
carry-out of the same digit positionÜbertrag aus derselben Ziffernstelle
chance of wafer damageMöglichkeit der Waferbeschädigung
channel length in direction of current flowKanallänge in Stromflußrichtung
channel width of p-channel transistorsbreite von p-Kanaltransistoren
channel width of p-channel transistorsKanal
channelling of semiconductor junctionsDurchtunnelung von Halbleiterübergängen
characterization of a global alignment on a wafer stepperBewertung einer Gesamtwaferjustierung auf einem Wafer-Stepper
charging time constant of the circuitLadungszeitkonstante der Schaltung
checkout of machine operationAusprüfen des Anlagenbetriebs
checkout of machine operationTesten des Anlagenbetriebs
chordal flat of a waferAnschliff eines Wafers
circuit line of 0.2 μm widthSchaltkreiselement von 0,2 μm Breite
circuit pattern of about 3.0 micrometresSchaltkreisstruktur mit Linienbreiten von etwa 3 pm
circuit structure for a fan-in of 1 and a fan-out of 3Schaltkreisstruktur für einen Eingangslastfaktor 1 und einen Ausgangslastfaktor 3
circuit trace side of the boardLeiterbahnseite (einer Leiterplatte)
circuit with least dimensions of 1 μmSchaltkreis mit kleinsten Abmessungen von 1 μm
climbing of dislocationsKlettern von Versetzungen
closed loop of paper tapeLochbandschleife
coalesce two sets of fileszwei Dateigruppen zusammenfügen (vereinigen)
coarse alignment of the waferGrobjustierung des Wafers
coat with a one-micron film of photoresistmit einem 1 μm dicken Resistfilm beschichten
coating of uniform thickness across the entire wafer surfaceSchicht von gleichmäßiger Dicke auf der gesamten Waferoberfläche
coding of wafersKennzeichnung von Wafern
colour-barcode enlargement of each levelFarbvergrößerung von jeder Ebene
column of diceSpalte von Einzelbildern
column of memory cellsSpalte von Speicherzellen
combine two sets of fileszwei Dateigruppen zusammenfügen (vereinigen)
common axis of symmetrygemeinsame Symmetrieachse
common-mode rejection ratio of the op ampGleichtaktunterdrückung fdes Operationsverstärkers
compensating capability of the systemKompensationsmöglichkeit der Anlage
compensating deflection of the beamKompensationsablenkung des Strahls
complementary pair of n- and p-channel transistorskomplementäres Paar von - und p-Kanal-Transistoren
complementary pair of transistors connected in serieszwei in Reihe zusammengeschaltete Komplementärtransistoren
complete the service of the interruptdie Behandlung der Unterbrechung abschließen
completion of a read operationAbschluß eines Lesevorgangs
completion of the current instructionAbarbeitung des laufenden Befehls
completion of the current instructionAusführung des laufenden Befehls
complexity of an LSI circuitKomplexität einer LSI-Schaltung
component side of a printed circuit boardBestükkungsseite einer Leiterplatte
compose of many subfieldsaus vielen Teilfeldern zusammensetzen
computation of the covariance functionBerechnung der Kovarianzfunktion
computer control of electron beams for maskless fabricationComputersteuerung von Elektronenstrahlen für maskenlose Strukturherstellung
computing power of microprocessorsRechenleistung von Mikroprozessoren
concavity of the etched featurekonkave Form des geätzten Strukturelements
concentration of interstitialsKonzentration von Zwischengitteratomen
conditional transfer of controlSteuerungsübergabe durch bedingten Sprungbefehl
conductive pattern of a circuitLeiterstruktur eines Schaltkreises
cone angle of the raysWinkel des Strahlenbündels
configure systems with any combination of test featuresAnlagen mit beliebiger Kombination von Kontrollparametern zusammenstellen
connect a number of terminals to a central processoreine Reihe von Datensichtgeräten mit dem Zentralprozessor verbinden
connection of appropriate channels of two computer systemsVerbindung entsprechender Kanäle von zwei Rechenanlagen
connections on the perimeter of the chipAnschlüsse mpl am Chipumfang
connections on the perimeter of the chipVerbindungen am Chipumfang
consistency of performanceReproduzierbarkeit der Leistung
consistency of the imageryGleichmäßigkeit der Abbildung
consistent quality of the photoresistsgleichbleibende Qualität der Fotoresists
consolidate dozens of logic elements into a single ICDutzende von Logikelementen in einer einzigen integrierten Schaltung vereinigen
constant intensity across most of the beam diameterkonstante Intensität über den größten Teil des Strahldurchmessers
constant number of wordskonstante Wortzahl
constituent of an alloyBestandteil einer Legierung
construct from only two values of resistoraus nur zwei Widerstandswerten aufbauen
consume a large part of the die areaeinen großen Teil der Chipfläche einnehmen (beanspruchen)
consumption of silicon real estateBedarf an Siliziumfläche
contact duplication of the mask onto the waferKontaktkopierung der Maske auf den Wafer
contact pads on all four sides of the chip carrierKontaktstellen auf allen vier Seiten des Chipträgers
contact printing of the pattern onto the device substrateKontaktkopieren der Struktur auf das Bauelementsubstrat
contacting of both mask and wafer before exposureKontaktierung von Maske und Wafer vor der Belichtung
contain the complete pattern for all dice at the actual size of the final featuresdie vollständige Struktur für alle Chips in natürlicher Größe der endgültigen Strukturelemente enthalten (1 ×)
containment of electronic devicesAbschluß elektronischer Bauelemente (z. B. in einer Schutzatmosphäre)
contents of a fileDateiinhalt
contents of an area of memoryInhalt eines Speicherbereichs
contents of the counterInhalt des Zählers
continual recirculation of a signalständiger Umlauf eines Signals
continuity of metallizationDurchgängigkeit der Metallisierung
continuous motion of the X-Y tablekontinuierliche Verschiebung des Koordinatentisches
contraction of wafersZusammenziehung der Wafer
contrast of a resistKontrast eines Resists
control of autodopingKontrolle der Selbstdotierung
control of baking temperature within ±2 °CEinhaltung der Härtungstemperatur bis auf ±2 °C
control of critical dimensionsBeherrschung kritischer Abmessungen
control of critical dimensionsToleranzeinhaltung kritischer Größen
control of line widthEinhaltung der Linienbreite
control of the lens-to-wafer separationKontrolle des Abstands zwischen Objektiv und Wafer
control of the lens-to-wafer spacingKontrolle des Abstands zwischen Objektiv und Wafer
control the movement of the machine tabledie Verschiebung des Gerätetisches steuern
control tolerance of 10 % of the minimum line widthEinhaltungstoleranz von 10 % der kleinsten Linienbreite
conveyor of dataDatenträger
copper foil of the desired thicknessKupferfolie der gewünschten Dicke
copper trace of standard widthKupferleitbahn genormter Breite
copy number of the fileKopiennummer der Datei
copy of a chrome maskKopie einer Chrommaske
copy of the original maskKopie der Originalschablone
copy of the original maskDuplikat der Originalschablone
copy the contents of a memory area to a backing storeden Inhalt eines Speicherbereichs auf einen Hilfsspeicher übertragen
correctness of alignment between reticles in a setRichtigkeit der Justierung zwischen Retikeln in einem Satz
corruption of an instruction codeVerstümmelung eines Befehlskodes
cost-effective per bit of informationKosten je Informationsbit
cost-effective per function of an integrated circuit chipKosten je Funktion eines Mikroschaltkreischips
cost-effective- performance advantage of hardwareKosten-Leistungs-Vorteil der technischen Ausrüstung
couple into a film of resistin eine Resistschicht einkoppeln
create a 4.0-mm wide image of the slit at the mask planeein 4 mm breites Bild des Spalts in der Maskenebene erzeugen
create a new copy of the fileeine neue Kopie der Datei erzeugen
creation of blocks from individual recordsZusammenstellung von Blöcken aus einzelnen Datensätzen
creeping of the etching solution under the resist coatingKriechen der Ätzlösung unter die Resistschicht
cross talk'figure of meritÜbersprechgüteziffer
cross the barrier of 1 μmdie 1-μm-Barriere durchbrechen
crossing of the junction by individual carriersDurchqueren des pn-Übergangs durch einzelne Ladungsträger
crystal plane of siliconKristallebene fdes Siliziums
crystallographic orientation of the silicon substrateKristallorientierung des Siliziumsubstrats
curing of negative resistsHärten von Negativresists
current contents of a counteraktueller Inhalt eines Zählers
current state of the deviceaktueller Zustand des Geräts
current version of the fileaktuelle Version der Datei
current-carrying path of the resistorStromleitpfad des Widerstands
custom-built tailoring of doping profileskundenspezifische Gestaltung der Dotierungsprofile
custom-built-fitted for a variety of applicationsfür verschiedene Anwendungszwecke entwickelt
cut off the least significant digits of a numberdie niedrigstwertigen Ziffern einer Zahl abschneiden
cut the mask generation time down by a factor of two to threedie Maskenherstellungszeit um das Zwei- bis Dreifache verringern (reduzieren)
cutoff angle of current flowStromflußwinkel
cutoff of the transistorSperrung des Transistors
cutoff region of the transistorSperrbereich des Transistors
data management capability of the processorDatenverwaltungsmöglichkeit des Prozessors
deallocate a block of memorydie Zuordnung für einen Speicherblock aufheben
deallocate a block of memoryeinen Speicherblock freigeben
deallocation of storageAufhebung der Speicherzuordnung
decay of the output voltageAbfall der Ausgangsspannung
decollimation of the illuminationDekollimation der Beleuchtung
decompose into a number of stripesin eine Reihe von Streifen zerlegen
decompose the pattern into a number of elementsdas Belichtungsmuster in eine Reihe von Elementarfiguren zerlegen
decomposition of vapourDampfzersetzung (Epitaxie)
decrease to one tenth of its original valueauf ein Zehntel seines Ausgangswertes abfallen
defect reticle of the patternDefektretikel der Struktur
deficiencies of the mask alignersNachteile der Justier- und Belichtungsanlagen
define minimum geometries of 0.5 μmkleinste Strukturen von 0,5 μm schreiben (mit Elektronenstrahl)
define the edges of broad areasdie Kanten großer Flächen scharf markieren
definition of resist patterns down to submicron dimensionsAuflösung von Resiststrukturen bis in den Submikrometerbereich
deflect the direction of an atomein Atom aus seiner Richtung ablenken
deformation of wafersDurchbiegung von Halbleiterscheiben
degradation of minority carrier lifetimeHerabsetzung der Minoritätsträgerlebensdauer
degradation of the resist profileVerschlechterung des Resistprofils
delay element of one-digit period1-Bit-Verzögerungsglied
delay element of one-digit periodVerzögerungsglied für eine Zeichendauer
deletion of data not requiredEntfernen nicht benötigter Daten
deletion of data not requiredEliminieren nicht benötigter Daten
delineation of contact openingsscharfe Konturierung von Kontaktöffnungen (z. B. durch reaktives Ionenätzen)
delineation of the desired pattern in the resistSchreiben der gewünschten Struktur im Resist
delineation of VLSI patterns on silicon wafersSchreiben von VLSI-Strukturen auf Siliziumwafern (Elektronenstrahllithografie)
demagnified image of the sourceverkleinerte Abbildung der Quelle
demagnify to a probe of 10 Äauf einen Sondendurchmesser von 10 Ä verkleinern
density of device featuresPackungsdichte der Bauelementstrukturen
density of different fault typesDichte verschiedener Fehlerarten
depict the logic operation of the chip clearly and conciselydie funktionelle Operation des Chips eindeutig und kurz darstellen
depletion width of the Schottky barrierSperrschichtbreite der Schottkyschen Randschicht
deposit essentially line-of-sight on the vacuum chamber wallssich im wesentlichen geradlinig auf den Vakuumkammerwänden niederschlagen (Ionenstrahlätzen)
deposit two or more layers on the surface of each waferzwei oder mehr Schichten auf jeden Wafer aufdampfen
deposition of thin layers via chemical reactionsBildung dünner Schichten über chemische Reaktionen
depth of diffusionDiffusionstiefe
describe the layout to the computer in terms of its geometrydas Layout für den Computer in Form seiner Strukturanordnung beschreiben
descumming of photoresist residueAbziehen des Lackrestes
deselected mode of operationinaktivierte Betriebsweise
destroy the contents of the memoryden Speicherinhalt zerstören (löschen)
detection of glitchesNachweis von Störimpulsen
detection of imperfectionsFeststellung von Defekten
detection of imperfectionsNachweis von Defekten
detection of process deviationsNachweis von Prozeßabweichungen
detection of the transmitted X-raysNachweis der durchgelassenen Röntgenstrahlen
deterioration of the mask qualityVerschlechterung der Schablonenqualität
determine exact stage position to tolerances ranging from 1/8 to 1/48 wavelength of a HeNe laserdie genaue Tischposition mit einer Toleranz von 1/8 bis 1/48 Wellenlänge eines Helium-Neon-Lasers bestimmen
determine the position of the mark to an accuracy at least equal to the beam diameterdie Markenposition mit einer mindestens dem Strahldurchmesser entsprechenden Genauigkeit bestimmen
deviation of the photoresist thickness from the mean valueAbweichung der Fotoresistdicke vom Mittelwert
diagrammatic representation of a computer programSchemadarstellung eines Rechenprogramms
die of an outer lead bonderSchnittplatte eines Außenbonders
die size of 10 millimetres on a sideChipgröße von 10 mm x 10 mm
differential of the input signalDifferential des Eingangssignals
diffraction of light at the edges of features in the patternsBeugung des Lichts an den Kanten der Strukturelemente
diffuse impurities into a slice of germaniumStöratome in eine Germaniumscheibe eindiffundieren
diffuse impurities into precisely defined regions of the semiconductor waferFremdatome in genau definierte Zonen des Halbleiterwafers eindiffundieren
diffusion from front side of wafer into filmDiffusion von der Vorderseite des Wafers in die Schicht
diffusion rate of the reactantDiffusionsgeschwindigkeit des Reaktanten
diffusion-free annealing of implanted layersdiffusionslose Ausheilung implantierter Schichten
diffusivity of electrons and holes in the baseDiffusionsvermögen von Elektronen und Defektelektronen in der Basis
digit of a decimal numberZiffer einer Dezimalzahl
digital description of the patterndigitale Beschreibung der Struktur
digital form of representationdigitale Darstellungsform
dimension below a few tenths of nanometresAbmessung unter einigen zehntel Nanometer
dimensional accuracy of the developed resist patternGenauigkeit der Abmessungen der entwickelten Resiststruktur
dimensional control of integrated circuit patternsKontrolle der Abmessungen von Strukturen integrierter Schaltkreise
direct exposure of wafers by the electronbeam systemDirektbelichtung von Wafern durch die Elektronenstrahlanlage
direct fabrication of microassembliesDirektherstellung von Mikrobausteinen
direct generation of master masksDirektherstellung von Originalschablonen
direct mount of chip to boardDirektmontage des Chips auf der Leiterplatte
direct production of mask mastersDirektherstellung von Originalschablonen (z. B. mit Elektronenstrahlen)
direct stepping of a reticle onto wafersdirekte Übertragung einer Retikelstruktur auf Wafer (im Step-und-Repeat-Verfahren)
direct structuring of oxide layers without any resistDirektstrukturierung von Oxidschichten ohne ein Resist
direct the beam sequentially to the elements of the chip pattern to be exposedden Strahl sequentiell zu den zu belichtenden Elementen der Chipstruktur führen
direct writing free of proximity effectsDirektschreiben ohne Proximity-Effekte
direct writing of the device pattern with a scanning electron beamDirektschreiben der Bauelementstruktur mit einem Rasterelektronenstrahl
direction of the beam scanStrahlabtastrichtung
directionality of the etching ionsRichtungsfähigkeit der Ätzionen
dirty regions of memorymodifizierte Speicherbezirke
discharging time constant of the circuitEntladungszeitkonstante der Schaltung
displacement of a benchmarkVerschiebung einer Festpunktmarke
displacement of one digit position to the leftVerschiebung um eine Stelle nach links
displacement of orthogonal pairs of linesVerschiebung rechtwinkliger Linienpaare
displacement of the leadsVerbiegen der Zwischenträgerbrücken
displacement range of the object tableVerschiebungsbereich des Objekttisches
display value of timeZeitangabe
dissolution of the exposed areaAuflösung der belichteten Fläche (in Positivresists)
dissolution of the unexposed areaAuflösung der unbelichteten Fläche (in Negativresists)
dissolution ratio of exposed to unexposed positive photoresistAuflösungsverhältnis von belichtetem zu unbelichtetem Positivresist
dissolve the exposed portions of the substratedie belichteten Teile des Substrats lösen
distance of the wafer from the plane of best focusAbstand des Wafers von der besten Fokusebene
distortion of circles to oval patternsVerzerrung von Kreisen zu Ovalstrukturen
distribute to a large number of gatesan eine große Zahl von Gattern verteilen
dominant source of noisevorherrschende Rauschquelle
dopant concentration of the p-channelDotierungskonzentration des p-Kanals
doping of epitaxial siliconDotieren des epitaxialen Siliziums
dot of lead-tin solderSchmelzperle aus Blei-Zinn-Lot
dot of lead-tin solderPerle aus Blei-Zinn-Lot
double parallel rows of pinszwei parallele Reihen von Anschlußstiften (eines DIP-Gehäuses)
down scaling of structural dimensionsVerkleinerung der Strukturabmessungen
downward bending of the conduction bandKrümmung des Leitungsbandes nach unten
drain current at the point of pinch-offDrainstrom im Abschnürpunkt (MOSFET)
drift velocity of the particlesWanderungsgeschwindigkeit der Teilchen
drift velocity of the particlesDriftgeschwindigkeit der Teilchen
drop to 50 % of the initial valueauf 50 % des Anfangswerts fallen
dual row of staggered leadsDoppelreihe von versetzten Anschlüssen
dumping of the data from block buffers to the shifter systemUmspeicherung der Daten von Blockpuffern zum Schiebesystem
dwell time of an electron beamVerweilzeit eines Elektronenstrahls
early-warning type of systemFrühwarnanlage
ease of handlingeinfache Handhabung
ease of maintenanceWartungsfreundlichkeit
ease of serviceServicefreundlichkeit
ease of servicingServicefreundlichkeit
economics of IC fabricationRentabilität der Herstellung integrierter Schaltkreise
economics of IC fabricationwirtschaftliche Bedeutung der Herstellung integrierter Schaltkreise
economics of IC fabricationWirtschaftlichkeit der Herstellung integrierter Schaltkreise
economics of IC manufacturingRentabilität der Herstellung integrierter Schaltkreise
economics of IC manufacturingwirtschaftliche Bedeutung der Herstellung integrierter Schaltkreise
economics of IC manufacturingWirtschaftlichkeit der Herstellung integrierter Schaltkreise
edge of a waferRand eines Wafers
edge of featureStrukturkante
edge of the clock pulseTaktimpulsflanke
edge of the resist profileKante des Resistprofils
edge of the shadowSchattenkante
edge profile of etched single-crystal siliconKantenprofil von geätztem Einkristallsilizium
edge profile of the beamFlankenprofil des Strahls
edge profile of the developed resistKantenprofil des entwickelten Resists
edge slope of the beam profileFlanke des Strahlprofils
edgeboard connector of a p.c. boardStekkerleiste einer gedruckten Schaltung
effect simultaneous bonds of all outer leads to the substrategleichzeitig alle äußeren Enden des Zwischenträgers auf das Substrat bonden
efficient utilization of storagerationelle Ausnutzung des Speichers
eigenfunction of the stateEigenfunktion des Zustands
eigenvalue of the electronic stateEigenwert des Elektronenzustands
electroless application of the tin coating on the lead framesstromlose Verzinnung der Anschlußkammstreifen
electron beam of Gaussian shapePunktstrahl
electron exposure of resistsExposition der Resists mit Elektronen
electron-beam delineation of submicron geometry devicesElektronenstrahlschreiben von Bauelementstrukturen im Submikrometerbereich
electron-optical principle of forming shaped square electron beamselektronenoptisches Prinzip der Erzeugung von Flächenstrahlen
electrooptical sensing of the wafer edges for prealignmentelektrooptisches Abtasten der Waferkanten zur Vorjustierung
element of data descriptive of a recordDatenelement zur Beschreibung eines Satzes
elemental area of the apertureFlächenelement der Öffnung
employ extensively in a wide variety of applicationsin hohem Maße für die verschiedensten Verwendungszwecke benutzen
emulsion side of the master maskSchichtseite der Originalschablone
encompass a range of wavelengthseinen Wellenlängenbereich umfassen
end of an instructionBefehlsende
end-of-data blockDatenendeblock
end-of-data markerZeichen für Datenende
end-of-file markerDateiendezeichen
end-of-file markerDateiendemarke
end-of-file spotDateiendezeichen
end-of-file spotDateiendemarke
end-of-medium characterDatenträgerendezeichen
end of rasterRasterende
end of runProgrammende
end of-run routineMaschinenprogramm bei Programmende
end of-tape routineMaschinenprogramm bei Magnetbandende
end-of-transmission characterÜbertragungsendezeichen
enhancement of noiseVerstärkung des Rauschens
enhancement of the field ion currentVerstärkung des Feldionenstroms
enhancement of the junction leakage currentVerstärkung des Übergangskriechstroms
enlarged image of a single circuit patternvergrößertes Bild einer einzigen Schaltkreisstruktur
entry of new informationEingabe neuer Informationen
equipment of contact printingKontaktkopieranlage
erase the contents of the memoryden Speicherinhalt löschen
erasure of the contents of a fileLöschen des Dateiinhalts
erasure of the contents of a fileLöschung des Dateiinhalts
erasure of the memoryLöschung des Speichers
escape energy of the Auger electronAustrittsenergie des Auger-Elektrons
establish the validity of test chip datadie Gültigkeit der Testchipdaten nachweisen
establishment of a steady-state conditionAufbau eines stationären Zustands
etch out of the waferaus dem Wafer herausätzen
etch the V notch out of the siliconden V-förmigen Graben in das Silizium ätzen
even-number columns of chipsgeradzahlige Spalten der Chips
ever-increasing scale of integration on silicon chipsständig zunehmender Integrationsgrad auf Siliziumchips
evolution of contaminantsEntwicklung von Verunreinigungen
excise chip-plus-interconnect from its piece of filmChip mit Zwischenträger aus seinem Filmstück herausschneiden
excising of bad devicesAussonderung defekter Bauelemente
excising of bad devicesAusscheidung defekter Bauelemente
execution cycle of an instructionAusführungszyklus eines Befehls
execution of an add instructionAusführung eines Additionsbefehls
execution of subroutinesAbarbeitung fvon Unterprogrammen
expansion of wafersVergrößerung der Wafer
exploitation of the techniqueAnwendung des Verfahrens
expose patterns deep into a thick coating of resistStrukturen tief in eine dicke Resistschicht hinein exponieren
expose the photoresist on the surface of a wafer to the patterns on a reticledas Fotoresist auf der Oberfläche eines Wafers mit den Strukturen eines Retikels belichten
exposed rectangle of round beam systembelichtetes Rechteck einer Punktstrahlanlage
exposure of the second or higher levelBelichtung der zweiten oder höheren Ebene (auf einem Wafer)
exposure time on the order of a minuteExpositionszeit von etwa einer Minute
exposure time on the order of a minuteBelichtungszeit von etwa einer Minute
exposure to the edge of the waferBelichtung bis zum Rand des Wafers
extend the limits of performance for optical projection lithographydie Leistungsgrenzen für die optische Projektionslithografie ausdehnen
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