 |
|
Subject: double imagewise patterning of two photoresist layers microel. Здравствуйте. Подскажите, как правильно перевести следующее предложение.The present invention relates to a process for imaging fine patterns on a microelectronic device using double imagewise patterning of two photoresist layers. |
| Настоящее изображение относится к способу получения изображения высокого разрешения с помощью микроэлектронного устройства, использующего (двойное) формирование изображения в двухслойном фоторезисте |
| You need to be logged in to post in the forum |